Atomic layer deposition and characterization of metal oxide thin films:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Mahmoodinezhad, Ali (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Cottbus ; Senftenberg 2022
Schlagworte:
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Beschreibung:ix, 183 Seiten Illustrationen, Diagramme
DOI:10.26127/BTUOpen-6134

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