Verfügbarkeit: Der elektrische Feldgradient in Silicium, Germanium und Graphit nach 19F-Rückstossimplantation [F-Rückstossimplantation]

Der elektrische Feldgradient in Silicium, Germanium und Graphit nach 19F-Rückstossimplantation [F-Rückstossimplantation]:

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Röseler, Burkhard (VerfasserIn)
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Veröffentlicht:	1988
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