Lithography for semiconductor manufacturing: 19 - 21 May 1999, Edinburgh, Scotland
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Bellingham, Wash. SPIE 1999
Schriftenreihe:Proceedings of SPIE / Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers 3741
Schlagworte:
Beschreibung:VII, 262 S. Ill., graph. Darst.
ISBN:0819432210

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