Entwicklung eines subtraktiven Strukturierungsverfahrens zur Herstellung von Röntgenzwischenmasken für das LIGA-Verfahren:
Gespeichert in:
| Format: | Buch |
|---|---|
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
Karlsruhe
Kernforschungszentrum
1993
|
| Ausgabe: | Als Ms. gedr. |
| Schriftenreihe: | Kernforschungszentrum <Karlsruhe>: KfK
5262 |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Inhaltsverzeichnis |
| Beschreibung: | Teilw. zugl.: Karlsruhe, Univ., Diss. von K. Kadel, 1993 - Zsfassung in engl. Sprache |
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LISTE
DER
VERWENDETEN
SYMBOLE
.
1
1
EINLEITUNG
.
3
2
GRUNDLAGEN
.
8
2.1
ANFORDERUNGEN
AN
LIGA-ROENTGENMASKEN
.
8
2.2
STAND
DER
TECHNIK
ZUR
HERSTELLUNG
VON
ROENTGENZWISCHENMASKEN
.
10
2.2.1
AUFBAU
DER
ROENTGENMASKEN
.
1
O
2.2.2
HERSTELLUNG
DER
TRAEGERFOLIE
.
11
2.2.3
ABSORBERSTRUKTURIERUNG
DURCH
ADDITIVEN
PROZESS
.
12
2.2.4
GRENZEN
ADDITIVER
ABSORBERSTRUKTURIERUNG
.
12
2.3
SUBTRAKTIVER
PROZESS
.
13
2.3.1
AUSWAHL
DES
ABSORBERMATERIALS
FUER
DEN
SUBTRAKTIVEN
PROZESS.
14
2.3.2
AUSWAHL
DER
MASKIERUNGSSCHICHT
.
17
2.3.3
STRUKTURIERUNG
DER
MASKIERUNGSSCHICHT
.
18
2.3.4
UEBERSICHT
UEBER
DIE
MASKENHERSTELLUNG
MIT
DEM
SUBTRAKTIVEN
VERFAHREN
.
20
3
VERSUCHSDURCHFUEHRUNG
.
22
3.1
SCHICHTAUFBAU
.
22
3.1.1
BESCHREIBUNG
DER
SPUTTERANLAGE
.
22
3.1.2
MESSUNG
DER
INNEREN
SPANNUNGEN
.
24
3.1.2.1
DURCHFUEHRUNG
DER
MESSUNGEN
.
25
3.1.2.2
MESSBEREICH
.
26
3.1.2.3
REPRODUZIERBARKEIT
DER
MESSUNG
.
26
3.1.2.4
EINFLUSS
DER
MESSTEMPERATUR
.
26
3.1.3
MESSUNG
DER
SCHICHTDICKEN
.
27
3.1.3.1
TASTSCHNITTGERAET
.
27
3.1.3.2
ROENTGENFLUORESZENZ
.
28
3.2
STRUKTURIERUNG
DER
SCHICHTEN
.
29
3.2.1
BESCHREIBUNG
DER
RIE-ANLAGE
.
29
3.2.2
KONDITIONIERUNG
DER
ANLAGE
.
29
3.3
MESSEN
DER
VERZUEGE
.
30
4
EXPERIMENTELLER
TEIL
.
32
4.1
HERSTELLUNG
DER
ABSORBERSCHICHT
.
32
4.1.1
THEORETISCHE
BETRACHTUNG
DER
BEEINFLUSSUNG
DES
GEFUEGES
DER
WOLFRAMSCHICHTEN
DURCH
DIE
BETRIEBSPARAMETER
.
33
4.1.1.1
SUBSTRATTEMPERATUR
.
33
4.1.1.2
SPUTTERDRUCK
.
34
4.1.1.3
BIASSPANNUNG
.
35
4.1.1.4
SPUTTERLEISTUNG
.
35
4.1.1.5
MAGNETFELD
.
36
4.1.1.6
SUBSTRATOBERFLAECHE
.
36
4.1.1.7
BESCHICHTUNGSRATE
.
36
4.1.2
AUFBAU
DER
ABSORBERSCHICHT
DURCH
STATISCHE
BESCHICHTUNG
.
37
4.1.2.1
SCHICHTDICKENGLEICHMAESSIGKEIT
.
38
4.1.2.2
PARAMETERVARIATION ZUR
EINSTELLUNG
DER
INNEREN
SPANNUNGEN
.
39
4.1.2.2.1
EINFLUSS
DER
SCHICHTDICKE
.
39
4.1.2.2.2
EINFLUSS
DES
SPUTTERDRUCKES
.
41
4.1.2.2.3
EINFLUSS
DER
BIASSPANNUNG
.
41
4.1.2.2.4
EINFLUSS
DER
SPUTTERLEISTUNG
.
42
4.1.2.2.5
EINFLUSS
DES
MAGNETABSTANDES
.
43
4.1.2.2.6
EINFLUSS
DER
BESCHICHTUNGSTEMPERATUR
.
43
4.1.2.2.7
EINFLUSS
DER
SCHICHTDICKENVERTEILUNG
.
44
4.1.2.3
DISKUSSION
DER
BEI
STATISCHER
BESCHICHTUNG
ERHALTENEN
INNEREN
SPANNUNGEN
.
44
4.1.3
AUFBAU
DER
ABSORBERSCHICHT
DURCH
DYNAMISCHE
BESCHICHTUNG
.
45
4.1.3.1
SCHICHTDICKENGLEICHMAESSIGKEIT
.
46
4.1.3.2
PARAMETERVARIATION
ZUR
EINSTELLUNG
DER
INNEREN
SPANNUNGEN
BEI
DER
BESCHICHTUNG
VON
SILIZIUMWAFERN
.
46
4.1.3.2.1
EINFLUSS
DER
BIASSPANNUNG
.
46
4.1.3.2.2
EINFLUSS
DES
MAGNETABSTANDES
.
47
4.1.3.2.3
EINFLUSS
DES
SPUTTERDRUCKES
.
47
4.1.3.3
PARAMETERVARIATION
ZUR
EINSTELLUNG
DER
INNEREN
SPANNUNGEN
AUF
ABHEBEWAFERN
.
49
4.1.3.3.1
EINFLUSS
DES
MAGNETABSTANDES
.
49
4.1.3.3.2
EINFLUSS
DES
SPUTTERDRUCKES
.
49
4.1.3.4
DISKUSSION
DER
BEI
DYNAMISCHER
BESCHICHTUNG
ERHALTENEN
INNEREN
SPANNUNGEN
.
50
4.1.4
AUFBAU
DER
ABSORBERSCHICHT
DURCH
QUASISTATISCHE
BESCHICHTUNG
.
50
4.1.4.1
SCHICHTDICKENGLEICHMAESSIGKEIT
.
51
4.1.4.2
PARAMETERVARIATION
ZUR
EINSTELLUNG
DER
INNEREN
SPANNUNGEN
BEI
DER
BESCHICHTUNG
VON
SILIZIUMWAFERN
.
51
4.1.4.2.1
EINFLUSS
DER
ROTATION
.
51
4.1.4.2.2
EINFLUSS
DES
SPUTTERDRUCKES
.
52
4.1.4.3
PARAMETERVARIATION
ZUR
EINSTELLUNG
DER
INNEREN
SPANNUNGEN
BEI
DER
BESCHICHTUNG
VON
ABHEBEWAFERN
.
53
4.1.4.3.1
EINFLUSS
DES
SPUTTERDRUCKES
.
53
4.1.4.3.2
EINFLUSS
DER
SPUTTERLEISTUNG
.
53
4.1.4.4
DISKUSSION
DER
BEI
QUASISTATISCHER
BESCHICHTUNG
ERHALTENEN
INNEREN
SPANNUNGEN
.
54
4.1.4.5
HOMOGENITAET
DER
INNEREN
SPANNUNGEN
BEI
DER
QUASISTATISCHEN
BESCHICHTUNG
.
55
4.1.5
VERGLEICH
DER
VERSCHIEDENEN
BESCHICHTUNGSARTEN
.
56
4.1.6
EIGENSCHAFTEN
DER
AUFGESPUTTERTEN
WOLFRAMSCHICHTEN
.
57
4.1.6.1
STANDZEITVERHALTEN
DER
AUFGESPUTTERTEN
SCHICHTEN
.
59
4.1.6.2
TEMPERATURBESTAENDIGKEIT
.
59
4.1.6.3
DICHTE
.
61
4.1.6.4
ARGONGEHALT
.
'
.
61
4.2
HERSTELLUNG
DER
MASKIERUNGSSCHICHT
.
62
4.3
STRUKTURIERUNG
DER
RESISTSTRUKTUR
.
62
4.3.1
ELEKTRONENSTRAHLLITHOGRAPHIE
.
63
4.3.2
OPTISCHE
LITHOGRAPHIE
.
63
4.4
STRUKTURIERUNG
DER
MASKIERUNGSSCHICHT
.
63
4.5
STRUKTURIERUNG
DER
ABSORBERSCHICHT
.
65
4.5.2
ERGEBNISSE
DER
STRUKTURIERUNG
MIT
CF4
.
68
4.5.2.1
EINFLUSS
DER
GENERATORLEISTUNG
.
69
4.5.2.2
EINFLUSS
DES
DRUCKS
.
69
4.5.2.3
EINFLUSS
DES
GASFLUSSES
.
70
4.5.2.4
EINFLUSS
DES
ELEKTRODENMATERIALS
.
71
4.5.2.5
OPTIMALER
ARBEITSPUNKT
FUER
CF4
.
71
4.5.3
VERWENDUNG
VON
SF6
ALS
AETZGAS
.
71
4.5.3.1
EINFLUSS
DER
GENERATORLEISTUNG
.
71
4.5.3.2
EINFLUSS
DES
DRUCKES
.
72
4.5.3.3
EINFLUSS
DES
GASFLUSSES
.
73
4.5.3.4
EINFLUSS
DES
ELEKTRODENMATERIALS
.
73
4.5.3.5
OPTIMALER
ARBEITSPUNKT
FUER
SF6
.
73
4.5.4
AETZSTOPP
AUF
DER
TITANMEMBRAN
.
74
4.5.5
ZUSAMMENFASSUNG
DER
ERGEBNISSE
BEI
DER
STRUKTURIERUNG
DER
ABSORBERSCHICHT
MIT
CF4
UND
SFSS
.
76
4.6
EIGENSCHAFTEN
DER
SUBTRAKTIV
HERGESTELLTEN
ROENTGENMASKEN
.
78
VERZUEGE
.
79
5
AUSBLICK
.
83
6
ZUSAMMENFASSUNG
UND
DISKUSSION
.
85
7
LITERATURVERZEICHNIS
.
88 |
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| spellingShingle | Entwicklung eines subtraktiven Strukturierungsverfahrens zur Herstellung von Röntgenzwischenmasken für das LIGA-Verfahren Kernforschungszentrum <Karlsruhe>: KfK Maske Halbleitertechnologie (DE-588)4282533-7 gnd LIGA-Verfahren (DE-588)4274347-3 gnd |
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