Hößler, D. (2019). Elektrische Evaluierung silizidierter und dotierter Anschlussbereiche von FET-Kontaktgräben mit zunehmendem Aspektverhältnis.
Chicago Style (17th ed.) CitationHößler, Diana. Elektrische Evaluierung Silizidierter Und Dotierter Anschlussbereiche Von FET-Kontaktgräben Mit Zunehmendem Aspektverhältnis. Dresden, 2019.
MLA (9th ed.) CitationHößler, Diana. Elektrische Evaluierung Silizidierter Und Dotierter Anschlussbereiche Von FET-Kontaktgräben Mit Zunehmendem Aspektverhältnis. 2019.
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