Induktiv gekoppelte maskenlose Plasmatexturierung von kristallinem Silizium durch SF6/O2 für die industrielle Photovoltaik:
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Veröffentlicht: |
Halle-Wittenberg
2018
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Beschreibung: | Die vorliegende Dissertation wir im Fraunhofer-Institut für Mikrostruktur von Werkstoffen und Systemen IMWS als wissenschaftlicher Bericht mit folgender Berichtsnummer geführt: 594/2018 |
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adam_text | INHALTSVERZEICHNIS
PHYSIKALISCHE
GROESSEN
1
ABKUERZUNGSVERZEICHNIS
4
1
MOTIVATION
UND
ZIELSTELLUNG
7
2
GRUNDLAGEN
DER
PLASMA-AETZTECHNIK
10
2.1
INDUKTIVE
UND
KAPAZITIVE
PLASMAEINKOPPLUNG
........................................
10
2.2
REAKTIVES
IONENAETZEN
VON
SILIZIUM
MIT
SF
6
/C 2
.....................................
13
2.3
PLASMAINDUZIERTE
SCHAEDIGUNG/VERUNREINIGUNG
.....................................
15
3
PHYSIKALISCHE
GRUNDLAGEN
18
3.1
FRESNELSCHE
GLEICHUNGEN
..........................................................................
18
3.2
EFFEKTIV-MEDIUM-THEORIE
..............................................................................
20
3.3
TRANSFER-MATRIX-METHODE
..............................................................................
22
3.4
FINITE-DIFFERENZEN-METHODE
IM
ZEITBEREICH
...............................................
23
3.5
OBERFLAECHENREKOMBINATION
...........................................................................
26
4
VERWENDETE
MITTEL
UND
METHODEN
29
4.1
BLACK-SILICON-METHODE
.................................................................................
29
4.2
REFLEXIONS-
UND
TRANSMISSIONSMESSUNG
.....................................................
30
4.3
QUASISTATIONAERE
PHOTOLEITFAEHIGKEITSMESSUNG
...............................................
32
5
ERGEBNISSE
34
5.1
EXPERIMENTELLE
ERGEBNISSE
...........................................................................
34
5.1.1
REM-AUFNAHMEN
..............................................................................
34
5.1.2
REFLEXIONSGRADMESSUNG
.....................................................................
37
5.1.3
PROZESSFENSTER
UND
-ZEIT
..................................................................
39
5.1.4
ICP-MS
ANALYSE
..............................................................................
43
5.1.5
QSSPC-ERGEBNISSE
...........................................................................
45
5.1.6
ELEKTRISCHE
EIGENSCHAFTEN
...............................................................
48
5.2
SIMULIERTE
ERGEBNISSE
....................................................................................
51
5.2.1
FDTD-SIMULATION
..............................................................................
51
5.2.2
TMM-SIMULATION
..............................................................................
55
5.2.3
PO
1
B-SIMULATION
..............................................................................
59
5
INHALTSVERZEICHNIS
6
DISKUSSION
63
6.1
PROZESSKONZEPT
..............................................................................................
63
6.2
OBERFLAECHENMORPHOLOGIE
..............................................................................
65
6.3
OPTISCHE
EIGENSCHAFTEN
.................................................................................
68
6.4
WIRKUNGSGRADOPTIMIERUNG
...........................................................................
74
6.5
NASSCHEMISCHE
NACHREINIGUNG
.....................................................................
82
7
ZUSAMMENFASSUNG
85
8
AUSBLICK
89
9
ANLAGEN
91
9.1
MATLAB
SKRIPT
ZUR
LD-FDTD
SIMULATION
.................................................
91
9.2
MATLAB
SKRIPT
ZUR
2D-FDTD
SIMULATION
.................................................
94
AUSGEWAEHLTE
VEROEFFENTLICHUNGEN
99
LITERATURVERZEICHNIS
101
ANGABEN
ZUR
PERSON
109
ERKLAERUNGEN
110
DANKSAGUNG
111
6
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