Chemical process design and simulation: Aspen Plus and Aspen HYSYS applications
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Haydary, Juma (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Hoboken Wiley 2019
Schlagworte:
Beschreibung:xliv, 391 Seiten Illustrationen, Diagramme
ISBN:9781119089117

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