Posseme, N. (2017). Plasma etching processes for CMOS device realization. ISTE Press.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Posseme, Nicolas. Plasma Etching Processes for CMOS Device Realization. London, UK: ISTE Press, 2017.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Posseme, Nicolas. Plasma Etching Processes for CMOS Device Realization. ISTE Press, 2017.
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