Verfügbarkeit: Elektromigration und deren Berücksichtigung beim zukünftigen Layoutentwurf digitaler Schaltungen

Elektromigration und deren Berücksichtigung beim zukünftigen Layoutentwurf digitaler Schaltungen:

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Thiele, Matthias (VerfasserIn)
Format:	Abschlussarbeit Buch
Sprache:	German
Veröffentlicht:	Düsseldorf VDI Verlag GmbH [2017]
Ausgabe:	Als Manuskript gedruckt
Schriftenreihe:	Fortschritt-Berichte VDI. Reihe 9, Elektronik/Mikro- und Nanotechnik 395
Schlagworte:	Leiterbahn Verdrahtung Digitale integrierte Schaltung Finite-Elemente-Methode Miniaturisierung Kohlenstoff-Nanoröhre Elektromigration Entwurfsautomation Elektrische Stromdichte Robustheit Hochschulschrift
Online-Zugang:	Inhaltsverzeichnis
Beschreibung:	X, 148 Seiten Illustrationen, Diagramme
ISBN:	9783183395095

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adam_text	INHALTSVERZEICHNIS 1 EINLEITUNG 1 1.1 ENTWICKLUNG DER HALBLEITERTECHNOLOGIE.......................................... 1 1.2 ENTWICKLUNG BEI LEITBAHNEN ......................................................... 2 1.3 MOTIVATION...................................................................................... 4 2 GRUNDLAGEN 7 2.1 ELEKTROMIGRATION............................................................................ 7 2.1.1 ALLGEMEINES ZUR ELEKTROMIGRATION .................................... 7 2.1.2 MOEGLICHKEITEN DER QUANTIFIZIERUNG..................................... 8 2.1.3 EINFLUSSGROESSEN.................................................................... 11 2.2 MECHANISMEN BEI DER ELEKTROMIGRATION ....................................... 14 2.2.1 KRISTALLSTRUKTUR UND DIFFUSIONSMECHANISMEN .................. 14 2.2.2 BARRIEREN BEI KUPFERMETALLISIERUNGEN ............................... 18 2.2.3 EINFLUSS DURCH MECHANISCHE SPANNUNGEN..............................21 2.2.4 ZUSAMMENSPIEL DER MIGRATIONSARTEN .................................. 23 2.2.5 FREQUENZABHAENGIGKEIT DER E M .......................................... 25 2.3 BERUECKSICHTIGUNG VON EM IM LAYOUTENTWURF...................................29 2.3.1 EINORDNUNG IN DEN LAYOUTENTWURF..................................... 29 2.3.2 BESONDERHEITEN DES DIGITALEN LAYOUTENTWURFS......................31 2.3.3 BERUECKSICHTIGUNG VON EM IM DIGITALEN LAYOUTENTWURF . . . 33 3 ZIELSTELLUNG DER ARBEIT 36 3.1 HINTERGRUND UND FRAGESTELLUNGEN ............................................... 36 3.2 EINORDNUNG DER ARBEIT IN DEN G ESAM TKONTEXT ................................ 39 4 ENTWICKLUNGSTRENDS BEI DIGITALEN SCHALTUNGEN 40 4.1 MOORESCHES GESETZ UND ROADMAP I T R S ....................................... 40 4.2 VERHINDERUNG VON EM-SCHAEDEN .................................................... 45 5 METHODEN FUER EM-ROBUSTE DIGITALE SCHALTUNGEN 47 5.1 UEBERSICHT UEBER DIE METHODEN ....................................................... 47 5.2 BAMBUS-EFFEKT .............................................................................. 50 5.2.1 PHYSIKALISCHER H INTERGRUND ............................................... 50 5.2.2 ANWENDUNG ......................................................................... 52 5.3 LAENGENEFFEKTE................................................................................. 55 5.3.1 PHYSIKALISCHER H INTERGRUND ............................................... 55 5.3.2 BEDEUTUNG FUER TECHNOLOGIE UND E N TW U RF .......................... 62 5.4 VIA-BELOW- UND VIA-ABOVE-KONFIGURATIONEN .................................. 67 5.4.1 GRUNDLAGEN ......................................................................... 67 5.4.2 PARAM ETER............................................................................ 68 5.4.3 VERGLEICH MIT AKTUELLEN TECHNOLOGIEN ............................... 69 5.4.4 ANWENDUNG 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5.6.5 AKTUELLE BEDEUTUNG REDUNDANTER VIAS ............................... 82 5.6.6 PARAMETER UND HINWEISE ZUR ANWENDUNG BEI E M .................82 5.7 FREQUENZABHAENGIGE EFFEKTE .......................................................... 84 5.7.1 SELBSTHEILUNG UND STEIGENDE FREQUENZEN .......................... 84 5.7.2 KONSEQUENZEN.................................................................... 85 5.8 WERKSTOFFE BEI KLASSISCHER METALL VERDRAHTUNG ................................ 87 5.8.1 LEITERWERKSTOFF.................................................................... 88 5.8.2 DIELEKTRIKUM....................................................................... 89 5.8.3 B ARRIERE .............................................................................. 91 5.9 NEUE WERKSTOFFE UND TECHNOLOGIEN.......................... 95 5.9.1 KOHLENSTOFFBASIERTE LOESUNGEN ............................................ 95 5.9.2 EIGENSCHAFTEN DER CN T....................................................... 97 5.9.3 AUSWIRKUNGEN AUF DEN ZUKUENFTIGEN LAYOUTENTWURF .......... 98 5.10 ZUSAMMENFASSUNG 100 6 AUSGEWAEHLTE UNTERSUCHUNGEN 102 6.1 SIMULATIONSMETHODEN...................................................................... 102 6.1.1 STROMDICHTESIMULATION MIT FINITEN ELEMENTEN ..................... 104 6.1.2 BESONDERHEITEN HERKOEMMLICHER TECHNOLOGIEN .................... 106 6.1.3 SIMULATION NEUER TECHNOLOGIEN............................................107 6.2 VERSUCHSMETHODEN DER EXPERIMENTELLEN VALIDIERUNG .................... 107 6.3 ERGEBNISSE DER UNTERSUCHUNGEN ...................................................... 111 6.3.1 LAENGENEFFEKTE...................................................................... 111 6.3.2 RESERVOIRE..............................................................................117 6.3.3 KOHLENSTOFFNANOROEHREN......................................................... 121 6.4 ZUSAMMENFASSUNG........................................................................... 124 7 GESAMTZUSAMMENFASSUNG UND AUSBLICK 125 7.1 ZUSAMMENFASSUNG DER A RB E IT.........................................................125 7.2 AUSBLICK: BIBLIOTHEK ROBUSTER LAYOUTELEMENTE...............................129 7.3 AUSBLICK: NUTZUNG VON NEUEN TECHNOLOGIEN .................................... 129 7.4 ZUKUENFTIGE NUTZUNG DER E RGEBNISSE .............................................. 130 GLOSSAR 132 LITERATURVERZEICHNIS 134
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spelling	Thiele, Matthias Verfasser aut Elektromigration und deren Berücksichtigung beim zukünftigen Layoutentwurf digitaler Schaltungen Dipl.-Ing. Matthias Thiele, Dreden Elektromigrationsrobuster Layoutentwurf Als Manuskript gedruckt Düsseldorf VDI Verlag GmbH [2017] X, 148 Seiten Illustrationen, Diagramme txt rdacontent n rdamedia nc rdacarrier Fortschritt-Berichte VDI. Reihe 9, Elektronik/Mikro- und Nanotechnik Nr. 395 Dissertation Technische Universität Dreden 2017 Leiterbahn (DE-588)4167320-7 gnd rswk-swf Verdrahtung (DE-588)4187633-7 gnd rswk-swf Digitale integrierte Schaltung (DE-588)4113313-4 gnd rswk-swf Finite-Elemente-Methode (DE-588)4017233-8 gnd rswk-swf Miniaturisierung (DE-588)4406753-7 gnd rswk-swf Kohlenstoff-Nanoröhre (DE-588)4581365-6 gnd rswk-swf Elektromigration (DE-588)4296761-2 gnd rswk-swf Entwurfsautomation (DE-588)4312536-0 gnd rswk-swf Elektrische Stromdichte (DE-588)4267929-1 gnd rswk-swf Robustheit (DE-588)4126481-2 gnd rswk-swf (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content Entwurfsautomation (DE-588)4312536-0 s Digitale integrierte Schaltung (DE-588)4113313-4 s Verdrahtung (DE-588)4187633-7 s Leiterbahn (DE-588)4167320-7 s Miniaturisierung (DE-588)4406753-7 s Elektromigration (DE-588)4296761-2 s Robustheit (DE-588)4126481-2 s Elektrische Stromdichte (DE-588)4267929-1 s Finite-Elemente-Methode (DE-588)4017233-8 s Kohlenstoff-Nanoröhre (DE-588)4581365-6 s DE-604 Fortschritt-Berichte VDI. Reihe 9, Elektronik/Mikro- und Nanotechnik 395 (DE-604)BV047505631 395 DNB Datenaustausch application/pdf http://bvbr.bib-bvb.de:8991/F?func=service&doc_library=BVB01&local_base=BVB01&doc_number=029768579&sequence=000001&line_number=0001&func_code=DB_RECORDS&service_type=MEDIA Inhaltsverzeichnis
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