Models and simulation of deposition processes with CVD apparatus: theory and applications
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Geiser, Juergen (VerfasserIn)
Format: Elektronisch E-Book
Sprache:English
Veröffentlicht: Hauppauge, N.Y.,USA Nova Science Publishers c2009
Schlagworte:
Online-Zugang:FAW01
FAW02
Volltext
Beschreibung:Includes index
Includes bibliographical references (p. 129-137) and indexes
Beschreibung:1 Online-Ressource (xvi, 140 p.)
ISBN:1606923250
1614703140
9781606923252
9781614703143

Es ist kein Print-Exemplar vorhanden.

Fernleihe Bestellen Achtung: Nicht im THWS-Bestand! Volltext öffnen