Einfluß der schnellen thermischen Prozeßführung auf die Struktur dünner Siliciumoxynitridschichten:
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| Format: | Abschlussarbeit Mikrofilm Buch |
| Sprache: | German |
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1997
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INHALTSVERZEICHNIS
1
EINLEITUNG
1
2
MODELLSUBSTANZ
SIO^NJ,
3
2.1
PHYSIKALISCHE
EIGENSCHAFTEN
.
3
2.2
GEOMETRISCHE
STRUKTUR
.
4
2.2.1
CRN-MODELL
.
5
2.2.2
RANDOM
MIXTURE
MODELL
.
6
2.2.3
RANDOM
BONDING
MODELL
.
7
2.2.4
STRUKTURPARAMETER
.
7
2.2.5
STRUKTURSIMULATION
.
11
2.3
ELEKTRONISCHE
STRUKTUR
.
12
2.3.1
RUMPFNIVEAUS
.
13
2.3.2
VALENZELEKTRONENZUSTANDSDICHTE
.
14
3
HERSTELLUNGSVERFAHREN
21
3.1
REAKTIVE
VERFAHREN
.
21
3.1.1
KONVENTIONELLE
THERMISCHE
PRAEPARATION
.
21
3.1.2
SCHNELLE
THERMISCHE
PROZESSFUEHRUNG
(RTP)
.
22
3.2
ABSCHEIDEVERFAHREN
.
23
4
RTP-APPARATUR
25
4.1
TEMPERATURMESSUNG
.
26
4.2
STRAHLUNGSHEIZUNG
.
27
4.3
GASVERSORGUNGSSYSTEM
.
28
4.4
PROZESSSTEUERUNG
.
28
4.5
VORGEHENSWEISE
BEI
DER
PRAEPARATION
.
29
5
WACHSTUMSMODELLE
31
5.1
THERMISCHE
OXYDATION
.
31
5.1.1
ADSORPTION
VON
0
AUF
SI
.
31
5.1.2
SILICIUMOXIDWACHSTUM
.
34
5.1.3
OXYDATION
MIT
LACHGAS
.
36
5.2
CVD-PROZESS
.
37
5.2.1
KINETIK
UND
THERMODYNAMIK
DES
CVD-PROZESSES
.
37
5.2.2
HYDRODYNAMIK
DES
CVD-PROZESSES
.
38
6
SCHICHTWACHSTUM
IN
DER
RTP-APPARATUR
40
6.1
SCHNELLE
THERMISCHE
OXYDATION
MIT
OJ
.
40
6.2
SCHNELLE
THERMISCHE
OXYDATION
MIT
N2O
.
42
6.3
SCHNELLE
THERMISCHE
NITRIDIERUNG
.
43
II
INHALTSVERZEICHNIS
6.4
RTLPCVD-PROZESS
.
44
7
ELEKTRONISCHE
STRUKTUR
47
7.1
AUGERELEKTRONENSPEKTROSKOPIE
.
47
7.2
SPEKTROMETER
.
47
7.3
KINETISCHE
ENERGIE
DER
AUGERELEKTRONEN
.
48
7.4
SI-LVV-SPEKTREN
.
48
7.5
TIEFENPROFILE
DER
ELEMENTVERTEILUNG
.
50
7.5.1
STICKSTOFFVERTEILUNG
IN
RTN-,
RTO(N)
UND
RTON-SCHICHTEN
.
52
7.5.2
RTLPCVD-SCHICHTEN
.
56
7.6
PHOTOELEKTRONENSPEKTROSKOPIE
.
57
7.6.1
XPS-BINDUNGSENERGIEN
.
57
7.6.2
CHEMISCHE
VERSCHIEBUNG
.
58
7.6.3
EXPERIMENTELLER
AUFBAU
.
59
7.6.4
AUSWERTUNG
DER
SPEKTREN
.
59
7.6.5
BESTIMMUNG
DER
SCHICHTDICKE
.
59
7.6.6
STOECHIOMETRIEBESTIMMUNG
.
61
7.6.7
OXIDINTERFACE
IN
RTO-SCHICHTEN
.
63
7.7
XPS
AN
SIOJN^-SCHICHTEN
.
69
7.7.1
RUMPFNIVEAUS
.
69
7.7.2
TIEFENAUFGELOESTE
TETRAEDERVERTEILUNG
.
J.
.
70
7.7.3
EVALUATION
DER
VALENZBAENDER
.
75
7.7.4
WINKELABHAENGIGE
VALENZBANDSPEKTREN
.
77
8
GEOMETRISCHE
STRUKTUR
81
8.1
EXAFS
.
81
8.1.1
METHODE
DER
KANTENTRENNUNG
.
82
8.1.2
EXPERIMENTELLER
AUFBAU
.
84
8.1.3
AUSWERTUNG
.
85
8.1.4
FLEXAFS
AN
SIOXNY-SCHICHTEN
.
85
8.2
TYEXAFS
AN
RTO-SCHICHTEN
.
88
8.3
INFRAROTSPEKTROSKOPIE
.
90
8.3.1
SPEKTROMETER
.
90
8.3.2
INTENSITAETEN
IM
FFTIR-SPEKTRUM
.
90
8.3.3
BESTIMMUNG
DER
STOECHIOMETRIE
AUS
DEN
FFTIR-SPEKTREN
.
91
8.3.4
INFRAROTSPEKTROSKOPIE
AN
SIOJN^-SCHICHTEN
.
91
9
DISKUSSION
97
10
ZUSAMMENFASSUNG
100
A
TEMPERATURBILANZ
I
B
HYDRODYNAMIK
DES
CVD-PROZESSES
VII
C
INTERFERENZ
AN
DUENNEN
SCHICHTEN
IX
D
ONO-SCHICHTEN
ALS
RUGARD-FILTER,
EINE
ANWENDUNG
XII
E
LATERALE
ELEMENTVERTEILUNG
XVI
III
INHALTSVERZEICHNIS
F
PROBEN
XIX
LITERATURVERZEICHNIS
XXI
ABBILDUNGSVERZEICHNIS
XXXVI
TABELLENVERZEICHNIS
XXXVII
DANKSAGUNG
XXXVIII
LEBENSLAUF
XXXIX
PUBLIKATIONS
LISTE
XL
EIDESSTATTLICHE
VERSICHERUNG
XLII |
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