Ionenimplantation:
Gespeichert in:
1. Verfasser: | |
---|---|
Format: | Elektronisch E-Book |
Sprache: | German |
Veröffentlicht: |
Wiesbaden
Vieweg+Teubner Verlag
1978
|
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
Beschreibung: | In den letzten Jahren erschienen bereits mehrere Bücher zum Thema Ionenimplantation, die sich fast ausschließlich an auf dem Gebiet der Ionenimplantation tätige Wissenschaftler wenden und deshalb der Theorie einen sehr breiten Raum einräumen. Im Gegensatz hierzu wendet sich das vorliegende Werk weniger an den Implantationsfachmann, sondern mehr an Forscher und Entwickler in Industrie, Forschungslaboratorien und Hochschulen, die an der Ionenimplantation als neuem Hilfsmittel zur Veränderung von Materialeigenschaften interessiert sind und wissen wollen, ob die Ionenimplantation für ihr Problem anwendbar ist. Bei einer solchen Ausrichtung muß deshalb nach unserer Meinung neben einem kurzen Abriß der theoretischen Grundlagen vor allem die Behandlung von Problemen bei der Anwendung der Implantation im Vordergrund der Darstellung stehen, wovon hier zum Beispiel genannt seien die elektrische Aktivierung implantierter Ionen, Diffusionseffekte sowie die Diskussion der hauptsächlich verwendeten Meßmethoden zur Untersuchung implantierter Schichten, die apparativen Anforderungen an Beschleunigungssysteme und natürlich zahlreiche Beispiele zur Anwendung der Ionenimplantation. Die Schwerpunkte des Buches liegen bei der Dotierung von Halbleitern durch Ionenimplantation, da dies zur Zeit und wahrscheinlich noch sehr lange ihre Hauptanwendung sein wird; dennoch wird von Fall zu Fall auf die weiteren Möglichkeiten der Implantation eingegangen |
Beschreibung: | 1 Online-Ressource (366 S. 369 Abb) |
ISBN: | 9783663056683 9783519032069 |
DOI: | 10.1007/978-3-663-05668-3 |
Internformat
MARC
LEADER | 00000nmm a2200000zc 4500 | ||
---|---|---|---|
001 | BV042438395 | ||
003 | DE-604 | ||
005 | 20170912 | ||
007 | cr|uuu---uuuuu | ||
008 | 150320s1978 |||| o||u| ||||||ger d | ||
020 | |a 9783663056683 |c Online |9 978-3-663-05668-3 | ||
020 | |a 9783519032069 |c Print |9 978-3-519-03206-9 | ||
024 | 7 | |a 10.1007/978-3-663-05668-3 |2 doi | |
035 | |a (OCoLC)863931339 | ||
035 | |a (DE-599)BVBBV042438395 | ||
040 | |a DE-604 |b ger |e aacr | ||
041 | 0 | |a ger | |
049 | |a DE-91 |a DE-634 |a DE-92 |a DE-573 |a DE-706 |a DE-1046 |a DE-1047 | ||
082 | 0 | |a 620 |2 23 | |
084 | |a DAT 000 |2 stub | ||
084 | |a TEC 000 |2 stub | ||
100 | 1 | |a Ryssel, Heiner |d 1941- |e Verfasser |0 (DE-588)108187802 |4 aut | |
245 | 1 | 0 | |a Ionenimplantation |c von Heiner Ryssel, Ingolf Ruge |
264 | 1 | |a Wiesbaden |b Vieweg+Teubner Verlag |c 1978 | |
300 | |a 1 Online-Ressource (366 S. 369 Abb) | ||
336 | |b txt |2 rdacontent | ||
337 | |b c |2 rdamedia | ||
338 | |b cr |2 rdacarrier | ||
500 | |a In den letzten Jahren erschienen bereits mehrere Bücher zum Thema Ionenimplantation, die sich fast ausschließlich an auf dem Gebiet der Ionenimplantation tätige Wissenschaftler wenden und deshalb der Theorie einen sehr breiten Raum einräumen. Im Gegensatz hierzu wendet sich das vorliegende Werk weniger an den Implantationsfachmann, sondern mehr an Forscher und Entwickler in Industrie, Forschungslaboratorien und Hochschulen, die an der Ionenimplantation als neuem Hilfsmittel zur Veränderung von Materialeigenschaften interessiert sind und wissen wollen, ob die Ionenimplantation für ihr Problem anwendbar ist. Bei einer solchen Ausrichtung muß deshalb nach unserer Meinung neben einem kurzen Abriß der theoretischen Grundlagen vor allem die Behandlung von Problemen bei der Anwendung der Implantation im Vordergrund der Darstellung stehen, wovon hier zum Beispiel genannt seien die elektrische Aktivierung implantierter Ionen, Diffusionseffekte sowie die Diskussion der hauptsächlich verwendeten Meßmethoden zur Untersuchung implantierter Schichten, die apparativen Anforderungen an Beschleunigungssysteme und natürlich zahlreiche Beispiele zur Anwendung der Ionenimplantation. Die Schwerpunkte des Buches liegen bei der Dotierung von Halbleitern durch Ionenimplantation, da dies zur Zeit und wahrscheinlich noch sehr lange ihre Hauptanwendung sein wird; dennoch wird von Fall zu Fall auf die weiteren Möglichkeiten der Implantation eingegangen | ||
650 | 4 | |a Engineering | |
650 | 4 | |a Engineering, general | |
650 | 4 | |a Ingenieurwissenschaften | |
650 | 0 | 7 | |a Halbleitertechnologie |0 (DE-588)4158814-9 |2 gnd |9 rswk-swf |
650 | 0 | 7 | |a Halbleiter |0 (DE-588)4022993-2 |2 gnd |9 rswk-swf |
650 | 0 | 7 | |a Ionenimplantation |0 (DE-588)4027606-5 |2 gnd |9 rswk-swf |
689 | 0 | 0 | |a Ionenimplantation |0 (DE-588)4027606-5 |D s |
689 | 0 | 1 | |a Halbleitertechnologie |0 (DE-588)4158814-9 |D s |
689 | 0 | |8 1\p |5 DE-604 | |
689 | 1 | 0 | |a Halbleiter |0 (DE-588)4022993-2 |D s |
689 | 1 | 1 | |a Ionenimplantation |0 (DE-588)4027606-5 |D s |
689 | 1 | |8 2\p |5 DE-604 | |
700 | 1 | |a Ruge, Ingolf |d 1934- |e Sonstige |0 (DE-588)106083392 |4 oth | |
856 | 4 | 0 | |u https://doi.org/10.1007/978-3-663-05668-3 |x Verlag |3 Volltext |
912 | |a ZDB-2-STI |a ZDB-2-BAD | ||
940 | 1 | |q ZDB-2-STI_Archive | |
999 | |a oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-027873725 | ||
883 | 1 | |8 1\p |a cgwrk |d 20201028 |q DE-101 |u https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk | |
883 | 1 | |8 2\p |a cgwrk |d 20201028 |q DE-101 |u https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk |
Datensatz im Suchindex
_version_ | 1804153128264663040 |
---|---|
any_adam_object | |
author | Ryssel, Heiner 1941- |
author_GND | (DE-588)108187802 (DE-588)106083392 |
author_facet | Ryssel, Heiner 1941- |
author_role | aut |
author_sort | Ryssel, Heiner 1941- |
author_variant | h r hr |
building | Verbundindex |
bvnumber | BV042438395 |
classification_tum | DAT 000 TEC 000 |
collection | ZDB-2-STI ZDB-2-BAD |
ctrlnum | (OCoLC)863931339 (DE-599)BVBBV042438395 |
dewey-full | 620 |
dewey-hundreds | 600 - Technology (Applied sciences) |
dewey-ones | 620 - Engineering and allied operations |
dewey-raw | 620 |
dewey-search | 620 |
dewey-sort | 3620 |
dewey-tens | 620 - Engineering and allied operations |
discipline | Technik Technik Informatik |
doi_str_mv | 10.1007/978-3-663-05668-3 |
format | Electronic eBook |
fullrecord | <?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>03458nmm a2200541zc 4500</leader><controlfield tag="001">BV042438395</controlfield><controlfield tag="003">DE-604</controlfield><controlfield tag="005">20170912 </controlfield><controlfield tag="007">cr|uuu---uuuuu</controlfield><controlfield tag="008">150320s1978 |||| o||u| ||||||ger d</controlfield><datafield tag="020" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">9783663056683</subfield><subfield code="c">Online</subfield><subfield code="9">978-3-663-05668-3</subfield></datafield><datafield tag="020" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">9783519032069</subfield><subfield code="c">Print</subfield><subfield code="9">978-3-519-03206-9</subfield></datafield><datafield tag="024" ind1="7" ind2=" "><subfield code="a">10.1007/978-3-663-05668-3</subfield><subfield code="2">doi</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(OCoLC)863931339</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)BVBBV042438395</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-604</subfield><subfield code="b">ger</subfield><subfield code="e">aacr</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">ger</subfield></datafield><datafield tag="049" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-91</subfield><subfield code="a">DE-634</subfield><subfield code="a">DE-92</subfield><subfield code="a">DE-573</subfield><subfield code="a">DE-706</subfield><subfield code="a">DE-1046</subfield><subfield code="a">DE-1047</subfield></datafield><datafield tag="082" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">620</subfield><subfield code="2">23</subfield></datafield><datafield tag="084" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DAT 000</subfield><subfield code="2">stub</subfield></datafield><datafield tag="084" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">TEC 000</subfield><subfield code="2">stub</subfield></datafield><datafield tag="100" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Ryssel, Heiner</subfield><subfield code="d">1941-</subfield><subfield code="e">Verfasser</subfield><subfield code="0">(DE-588)108187802</subfield><subfield code="4">aut</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Ionenimplantation</subfield><subfield code="c">von Heiner Ryssel, Ingolf Ruge</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="a">Wiesbaden</subfield><subfield code="b">Vieweg+Teubner Verlag</subfield><subfield code="c">1978</subfield></datafield><datafield tag="300" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">1 Online-Ressource (366 S. 369 Abb)</subfield></datafield><datafield tag="336" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">txt</subfield><subfield code="2">rdacontent</subfield></datafield><datafield tag="337" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">c</subfield><subfield code="2">rdamedia</subfield></datafield><datafield tag="338" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">cr</subfield><subfield code="2">rdacarrier</subfield></datafield><datafield tag="500" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">In den letzten Jahren erschienen bereits mehrere Bücher zum Thema Ionenimplantation, die sich fast ausschließlich an auf dem Gebiet der Ionenimplantation tätige Wissenschaftler wenden und deshalb der Theorie einen sehr breiten Raum einräumen. Im Gegensatz hierzu wendet sich das vorliegende Werk weniger an den Implantationsfachmann, sondern mehr an Forscher und Entwickler in Industrie, Forschungslaboratorien und Hochschulen, die an der Ionenimplantation als neuem Hilfsmittel zur Veränderung von Materialeigenschaften interessiert sind und wissen wollen, ob die Ionenimplantation für ihr Problem anwendbar ist. Bei einer solchen Ausrichtung muß deshalb nach unserer Meinung neben einem kurzen Abriß der theoretischen Grundlagen vor allem die Behandlung von Problemen bei der Anwendung der Implantation im Vordergrund der Darstellung stehen, wovon hier zum Beispiel genannt seien die elektrische Aktivierung implantierter Ionen, Diffusionseffekte sowie die Diskussion der hauptsächlich verwendeten Meßmethoden zur Untersuchung implantierter Schichten, die apparativen Anforderungen an Beschleunigungssysteme und natürlich zahlreiche Beispiele zur Anwendung der Ionenimplantation. Die Schwerpunkte des Buches liegen bei der Dotierung von Halbleitern durch Ionenimplantation, da dies zur Zeit und wahrscheinlich noch sehr lange ihre Hauptanwendung sein wird; dennoch wird von Fall zu Fall auf die weiteren Möglichkeiten der Implantation eingegangen</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1=" " ind2="4"><subfield code="a">Engineering</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1=" " ind2="4"><subfield code="a">Engineering, general</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1=" " ind2="4"><subfield code="a">Ingenieurwissenschaften</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Halbleitertechnologie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4158814-9</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Halbleiter</subfield><subfield code="0">(DE-588)4022993-2</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Ionenimplantation</subfield><subfield code="0">(DE-588)4027606-5</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="0"><subfield code="a">Ionenimplantation</subfield><subfield code="0">(DE-588)4027606-5</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="1"><subfield code="a">Halbleitertechnologie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4158814-9</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2=" "><subfield code="8">1\p</subfield><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Halbleiter</subfield><subfield code="0">(DE-588)4022993-2</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2="1"><subfield code="a">Ionenimplantation</subfield><subfield code="0">(DE-588)4027606-5</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2=" "><subfield code="8">2\p</subfield><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="700" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Ruge, Ingolf</subfield><subfield code="d">1934-</subfield><subfield code="e">Sonstige</subfield><subfield code="0">(DE-588)106083392</subfield><subfield code="4">oth</subfield></datafield><datafield tag="856" ind1="4" ind2="0"><subfield code="u">https://doi.org/10.1007/978-3-663-05668-3</subfield><subfield code="x">Verlag</subfield><subfield code="3">Volltext</subfield></datafield><datafield tag="912" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">ZDB-2-STI</subfield><subfield code="a">ZDB-2-BAD</subfield></datafield><datafield tag="940" ind1="1" ind2=" "><subfield code="q">ZDB-2-STI_Archive</subfield></datafield><datafield tag="999" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-027873725</subfield></datafield><datafield tag="883" ind1="1" ind2=" "><subfield code="8">1\p</subfield><subfield code="a">cgwrk</subfield><subfield code="d">20201028</subfield><subfield code="q">DE-101</subfield><subfield code="u">https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk</subfield></datafield><datafield tag="883" ind1="1" ind2=" "><subfield code="8">2\p</subfield><subfield code="a">cgwrk</subfield><subfield code="d">20201028</subfield><subfield code="q">DE-101</subfield><subfield code="u">https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk</subfield></datafield></record></collection> |
id | DE-604.BV042438395 |
illustrated | Not Illustrated |
indexdate | 2024-07-10T01:21:41Z |
institution | BVB |
isbn | 9783663056683 9783519032069 |
language | German |
oai_aleph_id | oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-027873725 |
oclc_num | 863931339 |
open_access_boolean | |
owner | DE-91 DE-BY-TUM DE-634 DE-92 DE-573 DE-706 DE-1046 DE-1047 |
owner_facet | DE-91 DE-BY-TUM DE-634 DE-92 DE-573 DE-706 DE-1046 DE-1047 |
physical | 1 Online-Ressource (366 S. 369 Abb) |
psigel | ZDB-2-STI ZDB-2-BAD ZDB-2-STI_Archive |
publishDate | 1978 |
publishDateSearch | 1978 |
publishDateSort | 1978 |
publisher | Vieweg+Teubner Verlag |
record_format | marc |
spelling | Ryssel, Heiner 1941- Verfasser (DE-588)108187802 aut Ionenimplantation von Heiner Ryssel, Ingolf Ruge Wiesbaden Vieweg+Teubner Verlag 1978 1 Online-Ressource (366 S. 369 Abb) txt rdacontent c rdamedia cr rdacarrier In den letzten Jahren erschienen bereits mehrere Bücher zum Thema Ionenimplantation, die sich fast ausschließlich an auf dem Gebiet der Ionenimplantation tätige Wissenschaftler wenden und deshalb der Theorie einen sehr breiten Raum einräumen. Im Gegensatz hierzu wendet sich das vorliegende Werk weniger an den Implantationsfachmann, sondern mehr an Forscher und Entwickler in Industrie, Forschungslaboratorien und Hochschulen, die an der Ionenimplantation als neuem Hilfsmittel zur Veränderung von Materialeigenschaften interessiert sind und wissen wollen, ob die Ionenimplantation für ihr Problem anwendbar ist. Bei einer solchen Ausrichtung muß deshalb nach unserer Meinung neben einem kurzen Abriß der theoretischen Grundlagen vor allem die Behandlung von Problemen bei der Anwendung der Implantation im Vordergrund der Darstellung stehen, wovon hier zum Beispiel genannt seien die elektrische Aktivierung implantierter Ionen, Diffusionseffekte sowie die Diskussion der hauptsächlich verwendeten Meßmethoden zur Untersuchung implantierter Schichten, die apparativen Anforderungen an Beschleunigungssysteme und natürlich zahlreiche Beispiele zur Anwendung der Ionenimplantation. Die Schwerpunkte des Buches liegen bei der Dotierung von Halbleitern durch Ionenimplantation, da dies zur Zeit und wahrscheinlich noch sehr lange ihre Hauptanwendung sein wird; dennoch wird von Fall zu Fall auf die weiteren Möglichkeiten der Implantation eingegangen Engineering Engineering, general Ingenieurwissenschaften Halbleitertechnologie (DE-588)4158814-9 gnd rswk-swf Halbleiter (DE-588)4022993-2 gnd rswk-swf Ionenimplantation (DE-588)4027606-5 gnd rswk-swf Ionenimplantation (DE-588)4027606-5 s Halbleitertechnologie (DE-588)4158814-9 s 1\p DE-604 Halbleiter (DE-588)4022993-2 s 2\p DE-604 Ruge, Ingolf 1934- Sonstige (DE-588)106083392 oth https://doi.org/10.1007/978-3-663-05668-3 Verlag Volltext 1\p cgwrk 20201028 DE-101 https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk 2\p cgwrk 20201028 DE-101 https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk |
spellingShingle | Ryssel, Heiner 1941- Ionenimplantation Engineering Engineering, general Ingenieurwissenschaften Halbleitertechnologie (DE-588)4158814-9 gnd Halbleiter (DE-588)4022993-2 gnd Ionenimplantation (DE-588)4027606-5 gnd |
subject_GND | (DE-588)4158814-9 (DE-588)4022993-2 (DE-588)4027606-5 |
title | Ionenimplantation |
title_auth | Ionenimplantation |
title_exact_search | Ionenimplantation |
title_full | Ionenimplantation von Heiner Ryssel, Ingolf Ruge |
title_fullStr | Ionenimplantation von Heiner Ryssel, Ingolf Ruge |
title_full_unstemmed | Ionenimplantation von Heiner Ryssel, Ingolf Ruge |
title_short | Ionenimplantation |
title_sort | ionenimplantation |
topic | Engineering Engineering, general Ingenieurwissenschaften Halbleitertechnologie (DE-588)4158814-9 gnd Halbleiter (DE-588)4022993-2 gnd Ionenimplantation (DE-588)4027606-5 gnd |
topic_facet | Engineering Engineering, general Ingenieurwissenschaften Halbleitertechnologie Halbleiter Ionenimplantation |
url | https://doi.org/10.1007/978-3-663-05668-3 |
work_keys_str_mv | AT rysselheiner ionenimplantation AT rugeingolf ionenimplantation |