Untersuchung des tiefenaufgelösten Strahlenschadenprofils in Silizium nach Ionenimplantation mit Hilfe der MOS-Struktur:
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| Format: | Abschlussarbeit Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
Berlin-Wannsee
1980
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| Schriftenreihe: | Berichte des Hahn-Meitner-Instituts
323 |
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