Ion implantation in semiconductors, silicon and germanium:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Mayer, James W. (VerfasserIn)
Format: Elektronisch E-Book
Sprache:English
Veröffentlicht: New York Academic Press 1970
Schlagworte:
Online-Zugang:FAW01
Volltext
Beschreibung:Includes bibliographical references
Beschreibung:1 Online-Ressource (xiii, 280 pages)
ISBN:0124808506
0323157211
9780124808508
9780323157216

Es ist kein Print-Exemplar vorhanden.

Fernleihe Bestellen Achtung: Nicht im THWS-Bestand! Volltext öffnen