Abscheidung und Charakterisierung von PECVD TEOS Siliziumoxid Schichten im Vergleich zu Silan basierten Siliziumoxid Schichten:

Physikalische Technik

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Giegold, Edwin (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: Wildau 2014
Schlagworte:
Online-Zugang:Inhaltsverzeichnis
Zusammenfassung:Physikalische Technik
Beschreibung:76 Blätter Illustrationen 1 CD-ROM

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