Abscheidung und Charakterisierung funktionaler PECVD-Si3N4 und –SiO2 Dünnschichten:
Physikalische Technik
Gespeichert in:
1. Verfasser: | |
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Format: | Abschlussarbeit Buch |
Sprache: | German |
Veröffentlicht: |
Wildau
2012
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