Charakterisierung modifizierter Negativresiste für die Röntgentiefenlithographie:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Lemke, Stephanie (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: 2011
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
kostenfrei
Beschreibung:VI, 148 S. Ill., graph. Darst.
DOI:10.14279/depositonce-3052

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