In-situ atomic layer deposition growth of Hf-oxide:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Karavaev, Konstantin 1982- (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: 2010
Schlagworte:
Online-Zugang:http://opus.kobv.de/btu/volltexte/2011/2261/
Beschreibung:VIII, 57 Bl. graph. Darst.

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