Die prozess- und strömungsabhängige Schichtabscheidung beim Hohlkathoden-Gasfluss-Sputtern untersucht an Titan- und Wolframschichten:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Tang, Stanley 1980- (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: 2010
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung:VIII, 168 S. Ill., graph. Darst.

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