Elektrische Charakterisierung von HfO2-Dünnschichten für nichtflüchtige widerstandsbasierte Speicher (RRAM):

Physikalische Technik

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Kaletta, Udo (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: Wildau 2009
Schlagworte:
Online-Zugang:Inhaltsverzeichnis
Zusammenfassung:Physikalische Technik
Beschreibung:71 Blätter Illustrationen

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