Patent- und Gebrauchsmusterverletzung:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Haft, Klaus (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: Berlin Berliner Wissenschafts-Verl. 2009
Schriftenreihe:Hagen Law School. Fachanwaltslehrgänge: Gewerblicher Rechtsschutz
Schlagworte:
Online-Zugang:Inhaltstext
Inhaltsverzeichnis
Beschreibung:43 S.
ISBN:9783830516774

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