Elektrochemische Nanostrukturierung von Si-Oberflächen durch selektives Ritzen von isolierenden Dünnfilmen mit dem Rasterkraftmikroskop: = Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching
Gespeichert in:
1. Verfasser: | |
---|---|
Format: | Abschlussarbeit Buch |
Sprache: | English |
Veröffentlicht: |
2008
|
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | kostenfrei https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:bvb:29-opus-9805 http://d-nb.info/991329406/34 |
Beschreibung: | 173 S. Ill., graph. Darst. |
Internformat
MARC
LEADER | 00000nam a2200000 c 4500 | ||
---|---|---|---|
001 | BV035152693 | ||
003 | DE-604 | ||
005 | 20090525 | ||
007 | t | ||
008 | 081111s2008 ad|| m||| 00||| eng d | ||
016 | 7 | |a 991329406 |2 DE-101 | |
035 | |a (OCoLC)644674965 | ||
035 | |a (DE-599)DNB991329406 | ||
040 | |a DE-604 |b ger |e rakwb | ||
041 | 0 | |a eng | |
049 | |a DE-384 |a DE-473 |a DE-703 |a DE-1051 |a DE-824 |a DE-29 |a DE-12 |a DE-91 |a DE-19 |a DE-1049 |a DE-92 |a DE-739 |a DE-898 |a DE-355 |a DE-706 |a DE-20 |a DE-1102 |a DE-29T | ||
082 | 0 | |a 530.4175 |2 22/ger | |
084 | |a ZM 7690 |0 (DE-625)157141: |2 rvk | ||
084 | |a 530 |2 sdnb | ||
100 | 1 | |a Zhang, Yan |d 1977- |e Verfasser |0 (DE-588)136629024 |4 aut | |
245 | 1 | 0 | |a Elektrochemische Nanostrukturierung von Si-Oberflächen durch selektives Ritzen von isolierenden Dünnfilmen mit dem Rasterkraftmikroskop |b = Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching |c von Zhang, Yan |
246 | 1 | 1 | |a Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching |
264 | 1 | |c 2008 | |
300 | |a 173 S. |b Ill., graph. Darst. | ||
336 | |b txt |2 rdacontent | ||
337 | |b n |2 rdamedia | ||
338 | |b nc |2 rdacarrier | ||
502 | |a Erlangen-Nürnberg, Univ., Diss., 2008 | ||
583 | 0 | |a Langzeitarchivierung Nationalbibliothek gewährleistet | |
650 | 0 | 7 | |a Kupfer |0 (DE-588)4033734-0 |2 gnd |9 rswk-swf |
650 | 0 | 7 | |a Oberflächenbehandlung |0 (DE-588)4042908-8 |2 gnd |9 rswk-swf |
650 | 0 | 7 | |a Lithografie |g Halbleitertechnologie |0 (DE-588)4191584-7 |2 gnd |9 rswk-swf |
650 | 0 | 7 | |a Rasterkraftmikroskop |0 (DE-588)4333578-0 |2 gnd |9 rswk-swf |
650 | 0 | 7 | |a Abscheidung |0 (DE-588)4141100-6 |2 gnd |9 rswk-swf |
650 | 0 | 7 | |a Silicium |0 (DE-588)4077445-4 |2 gnd |9 rswk-swf |
655 | 7 | |0 (DE-588)4113937-9 |a Hochschulschrift |2 gnd-content | |
689 | 0 | 0 | |a Silicium |0 (DE-588)4077445-4 |D s |
689 | 0 | 1 | |a Oberflächenbehandlung |0 (DE-588)4042908-8 |D s |
689 | 0 | 2 | |a Lithografie |g Halbleitertechnologie |0 (DE-588)4191584-7 |D s |
689 | 0 | 3 | |a Kupfer |0 (DE-588)4033734-0 |D s |
689 | 0 | 4 | |a Abscheidung |0 (DE-588)4141100-6 |D s |
689 | 0 | 5 | |a Rasterkraftmikroskop |0 (DE-588)4333578-0 |D s |
689 | 0 | |5 DE-604 | |
776 | 0 | 8 | |i Erscheint auch als |n Online-Ausgabe |o urn:nbn:de:bvb:29-opus-9805 |
856 | 4 | |u https://open.fau.de/handle/openfau/741 |x Verlag |z kostenfrei |3 Volltext | |
856 | 4 | |u https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:bvb:29-opus-9805 |x Resolvingsystem | |
856 | 4 | |u http://d-nb.info/991329406/34 | |
912 | |a ebook | ||
999 | |a oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-016959918 |
Datensatz im Suchindex
_version_ | 1804138311661387776 |
---|---|
adam_txt | |
any_adam_object | |
any_adam_object_boolean | |
author | Zhang, Yan 1977- |
author_GND | (DE-588)136629024 |
author_facet | Zhang, Yan 1977- |
author_role | aut |
author_sort | Zhang, Yan 1977- |
author_variant | y z yz |
building | Verbundindex |
bvnumber | BV035152693 |
classification_rvk | ZM 7690 |
collection | ebook |
ctrlnum | (OCoLC)644674965 (DE-599)DNB991329406 |
dewey-full | 530.4175 |
dewey-hundreds | 500 - Natural sciences and mathematics |
dewey-ones | 530 - Physics |
dewey-raw | 530.4175 |
dewey-search | 530.4175 |
dewey-sort | 3530.4175 |
dewey-tens | 530 - Physics |
discipline | Physik Werkstoffwissenschaften / Fertigungstechnik |
discipline_str_mv | Physik Werkstoffwissenschaften / Fertigungstechnik |
format | Thesis Book |
fullrecord | <?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>02548nam a2200553 c 4500</leader><controlfield tag="001">BV035152693</controlfield><controlfield tag="003">DE-604</controlfield><controlfield tag="005">20090525 </controlfield><controlfield tag="007">t</controlfield><controlfield tag="008">081111s2008 ad|| m||| 00||| eng d</controlfield><datafield tag="016" ind1="7" ind2=" "><subfield code="a">991329406</subfield><subfield code="2">DE-101</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(OCoLC)644674965</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)DNB991329406</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-604</subfield><subfield code="b">ger</subfield><subfield code="e">rakwb</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">eng</subfield></datafield><datafield tag="049" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-384</subfield><subfield code="a">DE-473</subfield><subfield code="a">DE-703</subfield><subfield code="a">DE-1051</subfield><subfield code="a">DE-824</subfield><subfield code="a">DE-29</subfield><subfield code="a">DE-12</subfield><subfield code="a">DE-91</subfield><subfield code="a">DE-19</subfield><subfield code="a">DE-1049</subfield><subfield code="a">DE-92</subfield><subfield code="a">DE-739</subfield><subfield code="a">DE-898</subfield><subfield code="a">DE-355</subfield><subfield code="a">DE-706</subfield><subfield code="a">DE-20</subfield><subfield code="a">DE-1102</subfield><subfield code="a">DE-29T</subfield></datafield><datafield tag="082" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">530.4175</subfield><subfield code="2">22/ger</subfield></datafield><datafield tag="084" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">ZM 7690</subfield><subfield code="0">(DE-625)157141:</subfield><subfield code="2">rvk</subfield></datafield><datafield tag="084" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">530</subfield><subfield code="2">sdnb</subfield></datafield><datafield tag="100" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Zhang, Yan</subfield><subfield code="d">1977-</subfield><subfield code="e">Verfasser</subfield><subfield code="0">(DE-588)136629024</subfield><subfield code="4">aut</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Elektrochemische Nanostrukturierung von Si-Oberflächen durch selektives Ritzen von isolierenden Dünnfilmen mit dem Rasterkraftmikroskop</subfield><subfield code="b">= Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching</subfield><subfield code="c">von Zhang, Yan</subfield></datafield><datafield tag="246" ind1="1" ind2="1"><subfield code="a">Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="c">2008</subfield></datafield><datafield tag="300" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">173 S.</subfield><subfield code="b">Ill., graph. Darst.</subfield></datafield><datafield tag="336" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">txt</subfield><subfield code="2">rdacontent</subfield></datafield><datafield tag="337" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">n</subfield><subfield code="2">rdamedia</subfield></datafield><datafield tag="338" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">nc</subfield><subfield code="2">rdacarrier</subfield></datafield><datafield tag="502" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Erlangen-Nürnberg, Univ., Diss., 2008</subfield></datafield><datafield tag="583" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">Langzeitarchivierung Nationalbibliothek gewährleistet</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Kupfer</subfield><subfield code="0">(DE-588)4033734-0</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Oberflächenbehandlung</subfield><subfield code="0">(DE-588)4042908-8</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Lithografie</subfield><subfield code="g">Halbleitertechnologie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4191584-7</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Rasterkraftmikroskop</subfield><subfield code="0">(DE-588)4333578-0</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Abscheidung</subfield><subfield code="0">(DE-588)4141100-6</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Silicium</subfield><subfield code="0">(DE-588)4077445-4</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="655" ind1=" " ind2="7"><subfield code="0">(DE-588)4113937-9</subfield><subfield code="a">Hochschulschrift</subfield><subfield code="2">gnd-content</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="0"><subfield code="a">Silicium</subfield><subfield code="0">(DE-588)4077445-4</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="1"><subfield code="a">Oberflächenbehandlung</subfield><subfield code="0">(DE-588)4042908-8</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="2"><subfield code="a">Lithografie</subfield><subfield code="g">Halbleitertechnologie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4191584-7</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="3"><subfield code="a">Kupfer</subfield><subfield code="0">(DE-588)4033734-0</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="4"><subfield code="a">Abscheidung</subfield><subfield code="0">(DE-588)4141100-6</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="5"><subfield code="a">Rasterkraftmikroskop</subfield><subfield code="0">(DE-588)4333578-0</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="776" ind1="0" ind2="8"><subfield code="i">Erscheint auch als</subfield><subfield code="n">Online-Ausgabe</subfield><subfield code="o">urn:nbn:de:bvb:29-opus-9805</subfield></datafield><datafield tag="856" ind1="4" ind2=" "><subfield code="u">https://open.fau.de/handle/openfau/741</subfield><subfield code="x">Verlag</subfield><subfield code="z">kostenfrei</subfield><subfield code="3">Volltext</subfield></datafield><datafield tag="856" ind1="4" ind2=" "><subfield code="u">https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:bvb:29-opus-9805</subfield><subfield code="x">Resolvingsystem</subfield></datafield><datafield tag="856" ind1="4" ind2=" "><subfield code="u">http://d-nb.info/991329406/34</subfield></datafield><datafield tag="912" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">ebook</subfield></datafield><datafield tag="999" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-016959918</subfield></datafield></record></collection> |
genre | (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content |
genre_facet | Hochschulschrift |
id | DE-604.BV035152693 |
illustrated | Illustrated |
index_date | 2024-07-02T22:47:19Z |
indexdate | 2024-07-09T21:26:11Z |
institution | BVB |
language | English |
oai_aleph_id | oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-016959918 |
oclc_num | 644674965 |
open_access_boolean | 1 |
owner | DE-384 DE-473 DE-BY-UBG DE-703 DE-1051 DE-824 DE-29 DE-12 DE-91 DE-BY-TUM DE-19 DE-BY-UBM DE-1049 DE-92 DE-739 DE-898 DE-BY-UBR DE-355 DE-BY-UBR DE-706 DE-20 DE-1102 DE-29T |
owner_facet | DE-384 DE-473 DE-BY-UBG DE-703 DE-1051 DE-824 DE-29 DE-12 DE-91 DE-BY-TUM DE-19 DE-BY-UBM DE-1049 DE-92 DE-739 DE-898 DE-BY-UBR DE-355 DE-BY-UBR DE-706 DE-20 DE-1102 DE-29T |
physical | 173 S. Ill., graph. Darst. |
psigel | ebook |
publishDate | 2008 |
publishDateSearch | 2008 |
publishDateSort | 2008 |
record_format | marc |
spelling | Zhang, Yan 1977- Verfasser (DE-588)136629024 aut Elektrochemische Nanostrukturierung von Si-Oberflächen durch selektives Ritzen von isolierenden Dünnfilmen mit dem Rasterkraftmikroskop = Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching von Zhang, Yan Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching 2008 173 S. Ill., graph. Darst. txt rdacontent n rdamedia nc rdacarrier Erlangen-Nürnberg, Univ., Diss., 2008 Langzeitarchivierung Nationalbibliothek gewährleistet Kupfer (DE-588)4033734-0 gnd rswk-swf Oberflächenbehandlung (DE-588)4042908-8 gnd rswk-swf Lithografie Halbleitertechnologie (DE-588)4191584-7 gnd rswk-swf Rasterkraftmikroskop (DE-588)4333578-0 gnd rswk-swf Abscheidung (DE-588)4141100-6 gnd rswk-swf Silicium (DE-588)4077445-4 gnd rswk-swf (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content Silicium (DE-588)4077445-4 s Oberflächenbehandlung (DE-588)4042908-8 s Lithografie Halbleitertechnologie (DE-588)4191584-7 s Kupfer (DE-588)4033734-0 s Abscheidung (DE-588)4141100-6 s Rasterkraftmikroskop (DE-588)4333578-0 s DE-604 Erscheint auch als Online-Ausgabe urn:nbn:de:bvb:29-opus-9805 https://open.fau.de/handle/openfau/741 Verlag kostenfrei Volltext https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:bvb:29-opus-9805 Resolvingsystem http://d-nb.info/991329406/34 |
spellingShingle | Zhang, Yan 1977- Elektrochemische Nanostrukturierung von Si-Oberflächen durch selektives Ritzen von isolierenden Dünnfilmen mit dem Rasterkraftmikroskop = Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching Kupfer (DE-588)4033734-0 gnd Oberflächenbehandlung (DE-588)4042908-8 gnd Lithografie Halbleitertechnologie (DE-588)4191584-7 gnd Rasterkraftmikroskop (DE-588)4333578-0 gnd Abscheidung (DE-588)4141100-6 gnd Silicium (DE-588)4077445-4 gnd |
subject_GND | (DE-588)4033734-0 (DE-588)4042908-8 (DE-588)4191584-7 (DE-588)4333578-0 (DE-588)4141100-6 (DE-588)4077445-4 (DE-588)4113937-9 |
title | Elektrochemische Nanostrukturierung von Si-Oberflächen durch selektives Ritzen von isolierenden Dünnfilmen mit dem Rasterkraftmikroskop = Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching |
title_alt | Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching |
title_auth | Elektrochemische Nanostrukturierung von Si-Oberflächen durch selektives Ritzen von isolierenden Dünnfilmen mit dem Rasterkraftmikroskop = Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching |
title_exact_search | Elektrochemische Nanostrukturierung von Si-Oberflächen durch selektives Ritzen von isolierenden Dünnfilmen mit dem Rasterkraftmikroskop = Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching |
title_exact_search_txtP | Elektrochemische Nanostrukturierung von Si-Oberflächen durch selektives Ritzen von isolierenden Dünnfilmen mit dem Rasterkraftmikroskop = Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching |
title_full | Elektrochemische Nanostrukturierung von Si-Oberflächen durch selektives Ritzen von isolierenden Dünnfilmen mit dem Rasterkraftmikroskop = Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching von Zhang, Yan |
title_fullStr | Elektrochemische Nanostrukturierung von Si-Oberflächen durch selektives Ritzen von isolierenden Dünnfilmen mit dem Rasterkraftmikroskop = Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching von Zhang, Yan |
title_full_unstemmed | Elektrochemische Nanostrukturierung von Si-Oberflächen durch selektives Ritzen von isolierenden Dünnfilmen mit dem Rasterkraftmikroskop = Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching von Zhang, Yan |
title_short | Elektrochemische Nanostrukturierung von Si-Oberflächen durch selektives Ritzen von isolierenden Dünnfilmen mit dem Rasterkraftmikroskop |
title_sort | elektrochemische nanostrukturierung von si oberflachen durch selektives ritzen von isolierenden dunnfilmen mit dem rasterkraftmikroskop electrochemical nanopatterning of si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching |
title_sub | = Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching |
topic | Kupfer (DE-588)4033734-0 gnd Oberflächenbehandlung (DE-588)4042908-8 gnd Lithografie Halbleitertechnologie (DE-588)4191584-7 gnd Rasterkraftmikroskop (DE-588)4333578-0 gnd Abscheidung (DE-588)4141100-6 gnd Silicium (DE-588)4077445-4 gnd |
topic_facet | Kupfer Oberflächenbehandlung Lithografie Halbleitertechnologie Rasterkraftmikroskop Abscheidung Silicium Hochschulschrift |
url | https://open.fau.de/handle/openfau/741 https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:bvb:29-opus-9805 http://d-nb.info/991329406/34 |
work_keys_str_mv | AT zhangyan elektrochemischenanostrukturierungvonsioberflachendurchselektivesritzenvonisolierendendunnfilmenmitdemrasterkraftmikroskopelectrochemicalnanopatterningofsisurfacesthroughinsulatinglayersbyatomicforcemicroscopescratching AT zhangyan electrochemicalnanopatterningofsisurfacesthroughinsulatinglayersbyatomicforcemicroscopescratching |