Verfügbarkeit: Siliziumschichten auf Siliziumdioxid mittels Flüssigphasenepitaxie

Siliziumschichten auf Siliziumdioxid mittels Flüssigphasenepitaxie: Herstellung und Charakterisierung von Schichtsystemen

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Bergmann, Ralf Bernhard (VerfasserIn)
Format:	Abschlussarbeit Buch
Sprache:	German
Veröffentlicht:	Berlin 1991
Schlagworte:	Charakterisierung Dünne Schicht SOI-Technik Siliciumdioxid Dissertation Wachstum Silicium Flüssigphasenepitaxie Hochschulschrift
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