Untersuchungen zur Oxiddegradation und zum dielektrischen Durchbruch von MOS-Strukturen mit dünnen thermischen Oxiden bei Fowlwer-Nordheim- Tunnelstrombelastung und deren technologischer Beeinflußbarkeit:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Bär, Hans-Peter (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: 1989
Schlagworte:
Beschreibung:112 Bl. Ill., graph. Darst.

Es ist kein Print-Exemplar vorhanden.

Fernleihe Bestellen Achtung: Nicht im THWS-Bestand!