Optimierung einer MOS N-Kanal-Enhancement/Depletion- Technologie mit Ionenimplantation:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Cioaca, Dumitru (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Mikrofilm Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: 1977
Schlagworte:
Beschreibung:Mikrofiche-Ausg.
Beschreibung:IV, 153 S. graph. Darst.

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