Elektrochemisches Verhalten von ionenplantiertem Silizium:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Pham Minh Tan (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: Rossendorf Zfk 1979
Schriftenreihe:Zentralinstitut für Kernforschung, Rossendorf bei Dresden 395
Beschreibung:104 S.

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