Zur Optimierung von Polymerresists für die Röntgenlithographie: Untersuchungen über Entwicklungssysteme und Prozessführung bei der Nassentwicklung
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Schlegel, Leo Wolfgang (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Mikrofilm Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: Berlin 1988
Schlagworte:
Beschreibung:Mikroreprod. e. Ms. 141 Bl. : graph. Darst., Ill.
Beschreibung:2 Mikrofiches 24x

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