Konstruktive Lithographie mit selbstorganisierenden metall-organischen Systemen:
Gespeichert in:
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| Format: | Abschlussarbeit Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
Karlsruhe
FZKA
2005
|
| Ausgabe: | Als Ms. gedr. |
| Schriftenreihe: | Wissenschaftliche Berichte
|
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| Online-Zugang: | Inhaltsverzeichnis |
| Beschreibung: | VI, 124 S. Ill., graph. Darst. |
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INHALTSVERZEICHNIS
1
EINLEITUNG
1
2
GRUNDLAGEN
5
2.1
EINLEITUNG
.
5
2.2
SELF-ASSEMBLED
MONOLAYER
(SAM)
.
5
2.3
THIOLATE
UND
DITHIOLATE
.
8
2.4
COUMARINE
UND
PHOTODIMERISATION
.
12
3
EXPERIMENTELLE
METHODEN
15
3.1
ANALYTIK
.
15
3.1.1
RUTHERFORD
BACK-SCATTERING
(RBS)
.
15
3.1.2
ENERGIEDISPERSIVE
ROENTGENSPEKTROSKOPIE
(EDX)
.
18
3.1.3
ROENTGENBEUGUNG
(XRD)
.
19
3.2
MIKROSKOPIE
.
21
3.2.1
OPTISCHE
MIKROSKOPIE
.
21
3.2.2
RASTERKRAFTMIKROSKOPIE
(AFM)
.
22
3.2.3
RASTERELEKTRONENMIKROSKOPIE
(REM)
.
25
3.2.4
FOCUSED
ION
BEAM
(FIB)
.
29
4
PRAEPARATIVE
METHODEN
31
4.1
SUBSTRATE
.
31
4.1.1
SILIZIUMSUBSTRATE
.
31
4.1.2
POLYIMID-SUBSTRATE
FUER
DIE
ROENTGENBEUGUNG
.
31
4.2
MAGNETRON-SPUTTERN
(KATHODENZERSTAEUBUNG)
UND
AUFDAMPFEN
.
32
4.3
REAKTIVES
LONENAETZEN
(REACTIVE
ION
ETCHING
(RIE))
.
34
4.3.1
OXIDATION
DER
METALLSCHICHTEN
.
35
4.3.2
SELEKTIVES
AETZEN
DES
STEMPELMASTERS
.
36
4.4
LOESUNGEN:
COUMARIN
UND
DISULFID
.
38
4.5
LICHTQUELLEN
UND
PHOTODIMERISIERUNG
.
38
4.6
MICRO-CONTACT
PRINTING
(PCP)
.
40
5
SUBSTRATE
CONSUMING
METAL
ORGANIC
LAYER
(SCMOL)
47
5.1
BILDUNG
DER
SCMOL
.
47
5.1.1
SUBSTRAT
.
47
5.1.2
SELBSTORGANISIERENDE
MOLEKUELE
.
47
5.1.3
SCHICHTHERSTELLUNG
.
49
5.2
STRUKTURUNTERSUCHUNGEN
DER
SCHICHT
.
50
5.2.1
ANALYSE
MIT
ENERGIEDISPERSIVER
ROENTGENSPEKTROSKOPIE
(EDX)
.
50
5.2.2
SCHICHTUNTERSUCHUNGEN
MIT
RUTHERFORD
BACK-SCATTERING
(RBS)
.
52
5.2.3
ROENTGENUNTERSUCHUNGEN
(XRD
UND
SAXS)
.
55
5.2.4
STRUKTUR
GETEMPERTER
SCHICHTEN
.
60
5.3
SCHICHTMODELL
DER
SCMOL
.
64
5.3.1
THEORETISCHES
MODELL
DER
AG-S-KOORDINATION
.
68
5.3.2
ROENTGENUNTERSUCHUNGEN
DER
AG-S-STAEBE
.
68
INHALTSVERZEICHNIS
5.3.3
WACHSTUMSMECHANISMUS
DER
SCHICHT
.
71
5.4
RELEVANTE
PARAMETER
FUER
DIE
SCHICHTBILDUNG
.
72
5.4.1
SCHICHTBILDUNG
AUF
VERSCHIEDENEN
METALLSUBSTRATEN
.
72
5.4.2
AENDERUNGEN
DES
SCHICHTWACHSTUMS
BEI
VERSCHIEDENER
PHOTODIMERISATION
(AKTIVIERUNG)
VON
LOESUNGEN
.
74
5.4.3
EINFLUSS
DES
SAUERSTOFFGEHALTS
DER
LOESUNG
AUF
DAS
SCHICHTWACHSTUM
.
74
5.5
STABILITAET
UND
SCHICHTABBAU
.
75
5.5.1
CHEMISCHE
STABILITAET
DER
SCHICHTEN
.
75
5.5.2
KONTROLLIERTER
PHOTOAKTIVIERTER
SCHICHTABBAU
.
75
5.6
SCMOL-BILDUNG
MIT
WEITEREN
ZWEI
ODER
MEHRFACH
THIOLTERMINIERTEN
MOLEKUELEN
.
76
5.7
ZUSAMMENFASSUNG
.
78
6
BOTTOM-UP-LITHOGRAPHIE
MITTELS
DREIDIMENSIONALER
SELBSTORGANISATION
81
6.1
POSITIV-LITHOGRAPHIE
.
81
6.1.1
VORSTRUKTURIERUNG
UND
SCHICHTBILDUNG
.
83
6.1.2
ERGEBNISSE
DER
POSITIV-LITHOGRAPHIE
.
84
6.2
NEGATIV-LITHOGRAPHIE
DURCH
INVERTIERTE
VORSTRUKTURIERUNG
.
86
6.2.1
ERGEBNISSE
DER
NEGATIV-LITHOGRAPHIE
.
88
6.2.2
TUNNELBILDUNG
UND
WACHSTUMSMECHANISMUS
.
89
6.3
UEBERGANG
ZUM
NANOSKALIGEN
REGIME
.
92
6.3.1
FREITRAGENDE
NANOSTRUKTUREN
.
92
6.3.2
VORSTRUKTURIERUNG
MIT
DEM
AFM
.
93
6.4
ZUSAMMENFASSUNG
UND
AUSBLICK
.
95
7
ZUSAMMENFASSUNG
UND
AUSBLICK
97
A
ANHANG
101
A.L
SYNTHESE
UND
CHARAKTERISIERUNG
.
101
A.1.1
COUMARINDERIVAT
(CD)
.
101
A.1.2
N,N
'
-BIS-(6-MERCAPTOHEXYL)-4,4
'
-BIPYRIDINIUM
DIBROMIDE
.
103
A.2
RBS-MODELLBILDUNG
FUER
COUMARIN-AG-SCHICHTEN
.
105
A.3
RIE-PARAMETER
FUER
SELEKTIVES
AETZEN
VON
PMMA
UND
SIO
X
.
109
IV |
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