Die Veränderung der Oberflächeneigenschaften von MOS-Strukturen einer Standard-Technologie durch ionisierende Bestrahlung:
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Abschlussarbeit Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
Berlin
1974
|
| Schlagworte: | |
| Beschreibung: | 148 Seiten Diagramme |
Internformat
MARC
| LEADER | 00000nam a2200000 c 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | BV024422461 | ||
| 003 | DE-604 | ||
| 005 | 20220722 | ||
| 007 | t | ||
| 008 | 970922s1974 |||| m||| 00||| ger d | ||
| 035 | |a (OCoLC)916056683 | ||
| 035 | |a (DE-599)BVBBV024422461 | ||
| 040 | |a DE-604 |b ger |e rakwb | ||
| 041 | 0 | |a ger | |
| 049 | |a DE-83 | ||
| 100 | 1 | |a Kämpf, Udo |e Verfasser |4 aut | |
| 245 | 1 | 0 | |a Die Veränderung der Oberflächeneigenschaften von MOS-Strukturen einer Standard-Technologie durch ionisierende Bestrahlung |c von Dipl.-Ing. Udo Kämpf |
| 264 | 1 | |a Berlin |c 1974 | |
| 300 | |a 148 Seiten |b Diagramme | ||
| 336 | |b txt |2 rdacontent | ||
| 337 | |b n |2 rdamedia | ||
| 338 | |b nc |2 rdacarrier | ||
| 502 | |b Dissertation |c Technische Universität Berlin |d 1974 | ||
| 655 | 7 | |0 (DE-588)4113937- |a Hochschulschrift |2 gnd-content | |
| 999 | |a oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-018399942 | ||
Datensatz im Suchindex
| _version_ | 1804140394472013824 |
|---|---|
| any_adam_object | |
| author | Kämpf, Udo |
| author_facet | Kämpf, Udo |
| author_role | aut |
| author_sort | Kämpf, Udo |
| author_variant | u k uk |
| building | Verbundindex |
| bvnumber | BV024422461 |
| ctrlnum | (OCoLC)916056683 (DE-599)BVBBV024422461 |
| format | Thesis Book |
| fullrecord | <?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>00871nam a2200265 c 4500</leader><controlfield tag="001">BV024422461</controlfield><controlfield tag="003">DE-604</controlfield><controlfield tag="005">20220722 </controlfield><controlfield tag="007">t</controlfield><controlfield tag="008">970922s1974 |||| m||| 00||| ger d</controlfield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(OCoLC)916056683</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)BVBBV024422461</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-604</subfield><subfield code="b">ger</subfield><subfield code="e">rakwb</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">ger</subfield></datafield><datafield tag="049" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-83</subfield></datafield><datafield tag="100" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Kämpf, Udo</subfield><subfield code="e">Verfasser</subfield><subfield code="4">aut</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Die Veränderung der Oberflächeneigenschaften von MOS-Strukturen einer Standard-Technologie durch ionisierende Bestrahlung</subfield><subfield code="c">von Dipl.-Ing. Udo Kämpf</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="a">Berlin</subfield><subfield code="c">1974</subfield></datafield><datafield tag="300" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">148 Seiten</subfield><subfield code="b">Diagramme</subfield></datafield><datafield tag="336" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">txt</subfield><subfield code="2">rdacontent</subfield></datafield><datafield tag="337" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">n</subfield><subfield code="2">rdamedia</subfield></datafield><datafield tag="338" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">nc</subfield><subfield code="2">rdacarrier</subfield></datafield><datafield tag="502" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">Dissertation</subfield><subfield code="c">Technische Universität Berlin</subfield><subfield code="d">1974</subfield></datafield><datafield tag="655" ind1=" " ind2="7"><subfield code="0">(DE-588)4113937-</subfield><subfield code="a">Hochschulschrift</subfield><subfield code="2">gnd-content</subfield></datafield><datafield tag="999" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-018399942</subfield></datafield></record></collection> |
| genre | (DE-588)4113937- Hochschulschrift gnd-content |
| genre_facet | Hochschulschrift |
| id | DE-604.BV024422461 |
| illustrated | Not Illustrated |
| indexdate | 2024-07-09T21:59:17Z |
| institution | BVB |
| language | German |
| oai_aleph_id | oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-018399942 |
| oclc_num | 916056683 |
| open_access_boolean | |
| owner | DE-83 |
| owner_facet | DE-83 |
| physical | 148 Seiten Diagramme |
| publishDate | 1974 |
| publishDateSearch | 1974 |
| publishDateSort | 1974 |
| record_format | marc |
| spelling | Kämpf, Udo Verfasser aut Die Veränderung der Oberflächeneigenschaften von MOS-Strukturen einer Standard-Technologie durch ionisierende Bestrahlung von Dipl.-Ing. Udo Kämpf Berlin 1974 148 Seiten Diagramme txt rdacontent n rdamedia nc rdacarrier Dissertation Technische Universität Berlin 1974 (DE-588)4113937- Hochschulschrift gnd-content |
| spellingShingle | Kämpf, Udo Die Veränderung der Oberflächeneigenschaften von MOS-Strukturen einer Standard-Technologie durch ionisierende Bestrahlung |
| subject_GND | (DE-588)4113937- |
| title | Die Veränderung der Oberflächeneigenschaften von MOS-Strukturen einer Standard-Technologie durch ionisierende Bestrahlung |
| title_auth | Die Veränderung der Oberflächeneigenschaften von MOS-Strukturen einer Standard-Technologie durch ionisierende Bestrahlung |
| title_exact_search | Die Veränderung der Oberflächeneigenschaften von MOS-Strukturen einer Standard-Technologie durch ionisierende Bestrahlung |
| title_full | Die Veränderung der Oberflächeneigenschaften von MOS-Strukturen einer Standard-Technologie durch ionisierende Bestrahlung von Dipl.-Ing. Udo Kämpf |
| title_fullStr | Die Veränderung der Oberflächeneigenschaften von MOS-Strukturen einer Standard-Technologie durch ionisierende Bestrahlung von Dipl.-Ing. Udo Kämpf |
| title_full_unstemmed | Die Veränderung der Oberflächeneigenschaften von MOS-Strukturen einer Standard-Technologie durch ionisierende Bestrahlung von Dipl.-Ing. Udo Kämpf |
| title_short | Die Veränderung der Oberflächeneigenschaften von MOS-Strukturen einer Standard-Technologie durch ionisierende Bestrahlung |
| title_sort | die veranderung der oberflacheneigenschaften von mos strukturen einer standard technologie durch ionisierende bestrahlung |
| topic_facet | Hochschulschrift |
| work_keys_str_mv | AT kampfudo dieveranderungderoberflacheneigenschaftenvonmosstruktureneinerstandardtechnologiedurchionisierendebestrahlung |