VHF-Plasmaabscheidung von mikrookristallinem Silizium (my-c-Si:H): Einfluß der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Abschlussarbeit Buch |
| Sprache: | Undetermined |
| Veröffentlicht: |
1995
|
| Schlagworte: | |
| Beschreibung: | 101 S. Ill., graph. Darst. |
Internformat
MARC
| LEADER | 00000nam a2200000 c 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | BV024412808 | ||
| 003 | DE-604 | ||
| 005 | 20090910 | ||
| 007 | t | ||
| 008 | 960826s1995 ad|| m||| 00||| und d | ||
| 035 | |a (OCoLC)916002886 | ||
| 035 | |a (DE-599)BVBBV024412808 | ||
| 040 | |a DE-604 |b ger |e rakwb | ||
| 041 | |a und | ||
| 049 | |a DE-83 |a DE-188 | ||
| 100 | 1 | |a Hapke, Peter |e Verfasser |4 aut | |
| 245 | 1 | 0 | |a VHF-Plasmaabscheidung von mikrookristallinem Silizium (my-c-Si:H) |b Einfluß der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften |c vorgelegt von Peter Hapke |
| 264 | 1 | |c 1995 | |
| 300 | |a 101 S. |b Ill., graph. Darst. | ||
| 336 | |b txt |2 rdacontent | ||
| 337 | |b n |2 rdamedia | ||
| 338 | |b nc |2 rdacarrier | ||
| 502 | |a Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1995 | ||
| 655 | 7 | |0 (DE-588)4113937-9 |a Hochschulschrift |2 gnd-content | |
| 999 | |a oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-018390769 | ||
Datensatz im Suchindex
| _version_ | 1804140381835624448 |
|---|---|
| any_adam_object | |
| author | Hapke, Peter |
| author_facet | Hapke, Peter |
| author_role | aut |
| author_sort | Hapke, Peter |
| author_variant | p h ph |
| building | Verbundindex |
| bvnumber | BV024412808 |
| ctrlnum | (OCoLC)916002886 (DE-599)BVBBV024412808 |
| format | Thesis Book |
| fullrecord | <?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>00894nam a2200265 c 4500</leader><controlfield tag="001">BV024412808</controlfield><controlfield tag="003">DE-604</controlfield><controlfield tag="005">20090910 </controlfield><controlfield tag="007">t</controlfield><controlfield tag="008">960826s1995 ad|| m||| 00||| und d</controlfield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(OCoLC)916002886</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)BVBBV024412808</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-604</subfield><subfield code="b">ger</subfield><subfield code="e">rakwb</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">und</subfield></datafield><datafield tag="049" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-83</subfield><subfield code="a">DE-188</subfield></datafield><datafield tag="100" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Hapke, Peter</subfield><subfield code="e">Verfasser</subfield><subfield code="4">aut</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">VHF-Plasmaabscheidung von mikrookristallinem Silizium (my-c-Si:H)</subfield><subfield code="b">Einfluß der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften</subfield><subfield code="c">vorgelegt von Peter Hapke</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="c">1995</subfield></datafield><datafield tag="300" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">101 S.</subfield><subfield code="b">Ill., graph. Darst.</subfield></datafield><datafield tag="336" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">txt</subfield><subfield code="2">rdacontent</subfield></datafield><datafield tag="337" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">n</subfield><subfield code="2">rdamedia</subfield></datafield><datafield tag="338" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">nc</subfield><subfield code="2">rdacarrier</subfield></datafield><datafield tag="502" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1995</subfield></datafield><datafield tag="655" ind1=" " ind2="7"><subfield code="0">(DE-588)4113937-9</subfield><subfield code="a">Hochschulschrift</subfield><subfield code="2">gnd-content</subfield></datafield><datafield tag="999" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-018390769</subfield></datafield></record></collection> |
| genre | (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content |
| genre_facet | Hochschulschrift |
| id | DE-604.BV024412808 |
| illustrated | Illustrated |
| indexdate | 2024-07-09T21:59:05Z |
| institution | BVB |
| language | Undetermined |
| oai_aleph_id | oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-018390769 |
| oclc_num | 916002886 |
| open_access_boolean | |
| owner | DE-83 DE-188 |
| owner_facet | DE-83 DE-188 |
| physical | 101 S. Ill., graph. Darst. |
| publishDate | 1995 |
| publishDateSearch | 1995 |
| publishDateSort | 1995 |
| record_format | marc |
| spelling | Hapke, Peter Verfasser aut VHF-Plasmaabscheidung von mikrookristallinem Silizium (my-c-Si:H) Einfluß der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften vorgelegt von Peter Hapke 1995 101 S. Ill., graph. Darst. txt rdacontent n rdamedia nc rdacarrier Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 1995 (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content |
| spellingShingle | Hapke, Peter VHF-Plasmaabscheidung von mikrookristallinem Silizium (my-c-Si:H) Einfluß der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften |
| subject_GND | (DE-588)4113937-9 |
| title | VHF-Plasmaabscheidung von mikrookristallinem Silizium (my-c-Si:H) Einfluß der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften |
| title_auth | VHF-Plasmaabscheidung von mikrookristallinem Silizium (my-c-Si:H) Einfluß der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften |
| title_exact_search | VHF-Plasmaabscheidung von mikrookristallinem Silizium (my-c-Si:H) Einfluß der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften |
| title_full | VHF-Plasmaabscheidung von mikrookristallinem Silizium (my-c-Si:H) Einfluß der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften vorgelegt von Peter Hapke |
| title_fullStr | VHF-Plasmaabscheidung von mikrookristallinem Silizium (my-c-Si:H) Einfluß der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften vorgelegt von Peter Hapke |
| title_full_unstemmed | VHF-Plasmaabscheidung von mikrookristallinem Silizium (my-c-Si:H) Einfluß der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften vorgelegt von Peter Hapke |
| title_short | VHF-Plasmaabscheidung von mikrookristallinem Silizium (my-c-Si:H) |
| title_sort | vhf plasmaabscheidung von mikrookristallinem silizium my c si h einfluß der plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen eigenschaften |
| title_sub | Einfluß der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften |
| topic_facet | Hochschulschrift |
| work_keys_str_mv | AT hapkepeter vhfplasmaabscheidungvonmikrookristallinemsiliziummycsiheinflußderplasmaanregungsfrequenzaufdiestrukturellenundelektrischeneigenschaften |