Ablationsverhalten von Silicium, Siliciumcarbid und Saphir bei Bestrahlung mit einem UV-Laser:

Physikalische Technik

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Bibliographic Details
Main Author: Cujas, Dajana (Author)
Format: Thesis Book
Language:German
Published: Wildau 2003
Subjects:
Online Access:Inhaltsverzeichnis
Summary:Physikalische Technik
Physical Description:74, VI Blätter Illustrationen

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