Ablationsverhalten von Silicium, Siliciumcarbid und Saphir bei Bestrahlung mit einem UV-Laser:

Physikalische Technik

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Cujas, Dajana (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: Wildau 2003
Schlagworte:
Online-Zugang:Inhaltsverzeichnis
Zusammenfassung:Physikalische Technik
Beschreibung:74, VI Blätter Illustrationen

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