Mesoscopic simulation of photoresist processing in optical lithography: = Mesoskopische Simulation der Photolackbearbeitung in der optischen Lithographie
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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Schnattinger, Thomas (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: 2007
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
http://d-nb.info/988688654/34
Volltext
Beschreibung:Erlangen-Nürnberg, Univ., Diss., 2007
Beschreibung:XII, 151 S. Ill., graph. Darst.

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