Far-field beam shaping elements for deep UV lithography:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Ripoll, Olivier (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Allensbach UFO Atelier für Gestaltung & Verlag 2003
Ausgabe:1. Aufl.
Schriftenreihe:UFO-Dissertation 428
Schlagworte:
Beschreibung:Zugl.: Neuchâtel, Univ., Diss., 2003
Beschreibung:IV, 140 S. Ill., graph. Darst.
ISBN:3935511299

Es ist kein Print-Exemplar vorhanden.

Fernleihe Bestellen Achtung: Nicht im THWS-Bestand!