Siliziumhaltige UV-empfindliche Lackschichten für die Trockenlacktechnik: plasmainduzierte Abscheidung aus der Gasphase und Entwicklung der belichteten Schichten im Hochfrequenzplasma
Gespeichert in:
1. Verfasser: | |
---|---|
Format: | Abschlussarbeit Buch |
Sprache: | German |
Veröffentlicht: |
1996
|
Schlagworte: | |
Beschreibung: | II, 138 S. Ill., graph. Darst. |
Internformat
MARC
LEADER | 00000nam a2200000zc 4500 | ||
---|---|---|---|
001 | BV021938162 | ||
003 | DE-604 | ||
005 | 20040302000000.0 | ||
007 | t | ||
008 | 980113s1996 ad|| m||| 00||| ger d | ||
035 | |a (OCoLC)258488370 | ||
035 | |a (DE-599)BVBBV021938162 | ||
040 | |a DE-604 |b ger | ||
041 | 0 | |a ger | |
049 | |a DE-706 |a DE-188 | ||
100 | 1 | |a Klumpp, Armin |d 1959- |e Verfasser |0 (DE-588)115622071 |4 aut | |
245 | 1 | 0 | |a Siliziumhaltige UV-empfindliche Lackschichten für die Trockenlacktechnik |b plasmainduzierte Abscheidung aus der Gasphase und Entwicklung der belichteten Schichten im Hochfrequenzplasma |
264 | 1 | |c 1996 | |
300 | |a II, 138 S. |b Ill., graph. Darst. | ||
336 | |b txt |2 rdacontent | ||
337 | |b n |2 rdamedia | ||
338 | |b nc |2 rdacarrier | ||
502 | |a Kassel, Univ.-GHS, Diss., 1996 | ||
650 | 0 | 7 | |a Integrierte Schaltung |0 (DE-588)4027242-4 |2 gnd |9 rswk-swf |
650 | 0 | 7 | |a Plasma |0 (DE-588)4046249-3 |2 gnd |9 rswk-swf |
650 | 0 | 7 | |a Lackieren |0 (DE-588)4166350-0 |2 gnd |9 rswk-swf |
650 | 0 | 7 | |a Lithografie |g Halbleitertechnologie |0 (DE-588)4191584-7 |2 gnd |9 rswk-swf |
650 | 0 | 7 | |a Gasphase |0 (DE-588)4156038-3 |2 gnd |9 rswk-swf |
650 | 0 | 7 | |a Ätzen |0 (DE-588)4000648-7 |2 gnd |9 rswk-swf |
650 | 0 | 7 | |a Hochfrequenz |0 (DE-588)4160130-0 |2 gnd |9 rswk-swf |
655 | 7 | |0 (DE-588)4113937-9 |a Hochschulschrift |2 gnd-content | |
689 | 0 | 0 | |a Ätzen |0 (DE-588)4000648-7 |D s |
689 | 0 | |5 DE-604 | |
689 | 1 | 0 | |a Integrierte Schaltung |0 (DE-588)4027242-4 |D s |
689 | 1 | |5 DE-604 | |
689 | 2 | 0 | |a Plasma |0 (DE-588)4046249-3 |D s |
689 | 2 | |5 DE-604 | |
689 | 3 | 0 | |a Gasphase |0 (DE-588)4156038-3 |D s |
689 | 3 | |5 DE-604 | |
689 | 4 | 0 | |a Hochfrequenz |0 (DE-588)4160130-0 |D s |
689 | 4 | |5 DE-604 | |
689 | 5 | 0 | |a Lackieren |0 (DE-588)4166350-0 |D s |
689 | 5 | |5 DE-604 | |
689 | 6 | 0 | |a Lithografie |g Halbleitertechnologie |0 (DE-588)4191584-7 |D s |
689 | 6 | |5 DE-604 | |
999 | |a oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-015153312 |
Datensatz im Suchindex
_version_ | 1804135897502842880 |
---|---|
adam_txt | |
any_adam_object | |
any_adam_object_boolean | |
author | Klumpp, Armin 1959- |
author_GND | (DE-588)115622071 |
author_facet | Klumpp, Armin 1959- |
author_role | aut |
author_sort | Klumpp, Armin 1959- |
author_variant | a k ak |
building | Verbundindex |
bvnumber | BV021938162 |
ctrlnum | (OCoLC)258488370 (DE-599)BVBBV021938162 |
format | Thesis Book |
fullrecord | <?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>01897nam a2200517zc 4500</leader><controlfield tag="001">BV021938162</controlfield><controlfield tag="003">DE-604</controlfield><controlfield tag="005">20040302000000.0</controlfield><controlfield tag="007">t</controlfield><controlfield tag="008">980113s1996 ad|| m||| 00||| ger d</controlfield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(OCoLC)258488370</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)BVBBV021938162</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-604</subfield><subfield code="b">ger</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">ger</subfield></datafield><datafield tag="049" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-706</subfield><subfield code="a">DE-188</subfield></datafield><datafield tag="100" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Klumpp, Armin</subfield><subfield code="d">1959-</subfield><subfield code="e">Verfasser</subfield><subfield code="0">(DE-588)115622071</subfield><subfield code="4">aut</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Siliziumhaltige UV-empfindliche Lackschichten für die Trockenlacktechnik</subfield><subfield code="b">plasmainduzierte Abscheidung aus der Gasphase und Entwicklung der belichteten Schichten im Hochfrequenzplasma</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="c">1996</subfield></datafield><datafield tag="300" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">II, 138 S.</subfield><subfield code="b">Ill., graph. Darst.</subfield></datafield><datafield tag="336" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">txt</subfield><subfield code="2">rdacontent</subfield></datafield><datafield tag="337" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">n</subfield><subfield code="2">rdamedia</subfield></datafield><datafield tag="338" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">nc</subfield><subfield code="2">rdacarrier</subfield></datafield><datafield tag="502" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Kassel, Univ.-GHS, Diss., 1996</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Integrierte Schaltung</subfield><subfield code="0">(DE-588)4027242-4</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Plasma</subfield><subfield code="0">(DE-588)4046249-3</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Lackieren</subfield><subfield code="0">(DE-588)4166350-0</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Lithografie</subfield><subfield code="g">Halbleitertechnologie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4191584-7</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Gasphase</subfield><subfield code="0">(DE-588)4156038-3</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Ätzen</subfield><subfield code="0">(DE-588)4000648-7</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Hochfrequenz</subfield><subfield code="0">(DE-588)4160130-0</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="655" ind1=" " ind2="7"><subfield code="0">(DE-588)4113937-9</subfield><subfield code="a">Hochschulschrift</subfield><subfield code="2">gnd-content</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="0"><subfield code="a">Ätzen</subfield><subfield code="0">(DE-588)4000648-7</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Integrierte Schaltung</subfield><subfield code="0">(DE-588)4027242-4</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="2" ind2="0"><subfield code="a">Plasma</subfield><subfield code="0">(DE-588)4046249-3</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="2" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="3" ind2="0"><subfield code="a">Gasphase</subfield><subfield code="0">(DE-588)4156038-3</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="3" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="4" ind2="0"><subfield code="a">Hochfrequenz</subfield><subfield code="0">(DE-588)4160130-0</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="4" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="5" ind2="0"><subfield code="a">Lackieren</subfield><subfield code="0">(DE-588)4166350-0</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="5" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="6" ind2="0"><subfield code="a">Lithografie</subfield><subfield code="g">Halbleitertechnologie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4191584-7</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="6" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="999" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-015153312</subfield></datafield></record></collection> |
genre | (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content |
genre_facet | Hochschulschrift |
id | DE-604.BV021938162 |
illustrated | Illustrated |
index_date | 2024-07-02T16:06:44Z |
indexdate | 2024-07-09T20:47:48Z |
institution | BVB |
language | German |
oai_aleph_id | oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-015153312 |
oclc_num | 258488370 |
open_access_boolean | |
owner | DE-706 DE-188 |
owner_facet | DE-706 DE-188 |
physical | II, 138 S. Ill., graph. Darst. |
publishDate | 1996 |
publishDateSearch | 1996 |
publishDateSort | 1996 |
record_format | marc |
spelling | Klumpp, Armin 1959- Verfasser (DE-588)115622071 aut Siliziumhaltige UV-empfindliche Lackschichten für die Trockenlacktechnik plasmainduzierte Abscheidung aus der Gasphase und Entwicklung der belichteten Schichten im Hochfrequenzplasma 1996 II, 138 S. Ill., graph. Darst. txt rdacontent n rdamedia nc rdacarrier Kassel, Univ.-GHS, Diss., 1996 Integrierte Schaltung (DE-588)4027242-4 gnd rswk-swf Plasma (DE-588)4046249-3 gnd rswk-swf Lackieren (DE-588)4166350-0 gnd rswk-swf Lithografie Halbleitertechnologie (DE-588)4191584-7 gnd rswk-swf Gasphase (DE-588)4156038-3 gnd rswk-swf Ätzen (DE-588)4000648-7 gnd rswk-swf Hochfrequenz (DE-588)4160130-0 gnd rswk-swf (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content Ätzen (DE-588)4000648-7 s DE-604 Integrierte Schaltung (DE-588)4027242-4 s Plasma (DE-588)4046249-3 s Gasphase (DE-588)4156038-3 s Hochfrequenz (DE-588)4160130-0 s Lackieren (DE-588)4166350-0 s Lithografie Halbleitertechnologie (DE-588)4191584-7 s |
spellingShingle | Klumpp, Armin 1959- Siliziumhaltige UV-empfindliche Lackschichten für die Trockenlacktechnik plasmainduzierte Abscheidung aus der Gasphase und Entwicklung der belichteten Schichten im Hochfrequenzplasma Integrierte Schaltung (DE-588)4027242-4 gnd Plasma (DE-588)4046249-3 gnd Lackieren (DE-588)4166350-0 gnd Lithografie Halbleitertechnologie (DE-588)4191584-7 gnd Gasphase (DE-588)4156038-3 gnd Ätzen (DE-588)4000648-7 gnd Hochfrequenz (DE-588)4160130-0 gnd |
subject_GND | (DE-588)4027242-4 (DE-588)4046249-3 (DE-588)4166350-0 (DE-588)4191584-7 (DE-588)4156038-3 (DE-588)4000648-7 (DE-588)4160130-0 (DE-588)4113937-9 |
title | Siliziumhaltige UV-empfindliche Lackschichten für die Trockenlacktechnik plasmainduzierte Abscheidung aus der Gasphase und Entwicklung der belichteten Schichten im Hochfrequenzplasma |
title_auth | Siliziumhaltige UV-empfindliche Lackschichten für die Trockenlacktechnik plasmainduzierte Abscheidung aus der Gasphase und Entwicklung der belichteten Schichten im Hochfrequenzplasma |
title_exact_search | Siliziumhaltige UV-empfindliche Lackschichten für die Trockenlacktechnik plasmainduzierte Abscheidung aus der Gasphase und Entwicklung der belichteten Schichten im Hochfrequenzplasma |
title_exact_search_txtP | Siliziumhaltige UV-empfindliche Lackschichten für die Trockenlacktechnik plasmainduzierte Abscheidung aus der Gasphase und Entwicklung der belichteten Schichten im Hochfrequenzplasma |
title_full | Siliziumhaltige UV-empfindliche Lackschichten für die Trockenlacktechnik plasmainduzierte Abscheidung aus der Gasphase und Entwicklung der belichteten Schichten im Hochfrequenzplasma |
title_fullStr | Siliziumhaltige UV-empfindliche Lackschichten für die Trockenlacktechnik plasmainduzierte Abscheidung aus der Gasphase und Entwicklung der belichteten Schichten im Hochfrequenzplasma |
title_full_unstemmed | Siliziumhaltige UV-empfindliche Lackschichten für die Trockenlacktechnik plasmainduzierte Abscheidung aus der Gasphase und Entwicklung der belichteten Schichten im Hochfrequenzplasma |
title_short | Siliziumhaltige UV-empfindliche Lackschichten für die Trockenlacktechnik |
title_sort | siliziumhaltige uv empfindliche lackschichten fur die trockenlacktechnik plasmainduzierte abscheidung aus der gasphase und entwicklung der belichteten schichten im hochfrequenzplasma |
title_sub | plasmainduzierte Abscheidung aus der Gasphase und Entwicklung der belichteten Schichten im Hochfrequenzplasma |
topic | Integrierte Schaltung (DE-588)4027242-4 gnd Plasma (DE-588)4046249-3 gnd Lackieren (DE-588)4166350-0 gnd Lithografie Halbleitertechnologie (DE-588)4191584-7 gnd Gasphase (DE-588)4156038-3 gnd Ätzen (DE-588)4000648-7 gnd Hochfrequenz (DE-588)4160130-0 gnd |
topic_facet | Integrierte Schaltung Plasma Lackieren Lithografie Halbleitertechnologie Gasphase Ätzen Hochfrequenz Hochschulschrift |
work_keys_str_mv | AT klumpparmin siliziumhaltigeuvempfindlichelackschichtenfurdietrockenlacktechnikplasmainduzierteabscheidungausdergasphaseundentwicklungderbelichtetenschichtenimhochfrequenzplasma |