Metallorganische Gasphasenabscheidung (MOCVD) oxidischer Dünnschichten aus dem Materialsystem Barium-Titanat-Zirkonat für integrierte Kondensatoren:
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Format: | Abschlussarbeit Buch |
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Veröffentlicht: |
Jülich
Forschungszentrum, Zentralbibliothek
2004
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4153 |
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adam_text | METALLORGANISCHE GASPHASENABSCHEIDUNG (MOCVD) OXIDISCHER DUENNSCHICHTEN
AUS DEM MATERIALSYSTEM BARIUM-TITANAT-ZIRKONAT FUER INTEGRIERTE
KONDENSATOREN VON DER FAKULTAET FUER ELEKTROTECHNIK UND
INFORMATIONSTECHNIK DER RHEINISCH-WESTFAELISCHEN TECHNISCHEN HOCHSCHULE
AACHEN ZUR ERLANGUNG DES AKADEMISCHEN GRADES EINES DOKTORS DER
INGENIEUNVISSENSCHAFTEN GENEHMIGTE DISSERTATION VORGELEGT VON
DIPLOM-INGENIEUR RALF GANSTER AUS WINDEN JETZT KREUZAU BERICHTER:
UNIVERSITAETSPROFESSOR DR.-ING. RAINER WASER UNIVERSITAETSPROFESSOR DR.
RER. NAT. HANS LUETH ULB DARMSTADT INHALT INHALT. I SYMBOLE, ABKUERZUNGEN
UND KONSTANTEN V / EINLEITUNG 1 1.1 WISSENSCHAFTLICH-TECHNISCHE RELEVANZ
1 1.2 STAND DER KENNTNIS 4 1.3 ZIELSETZUNG DIESER ARBEIT 6 2 GRUNDLAGEN
9 2.1 KOMPLEXE ERDALKALIMETALL-OXIDE MIT PEROVSKITSTRUKTUR 9 2.1.1 PARA-
UND FERROELEKTRIZITAET 9 2.1.2 DIELEKTRISCHE DUENNSCHICHTEN: MODELLSYSTEM
UND ANWENDUNGEN 13 2.1.3 DAS MISCHPHASENSYSTEM BATIO 3 - BAZRO 3 18 2.2
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION 21 2.2.1 GEGENUEBERSTELLUNG UNTERSCHIEDLICHER
DEPOSITIONSMETHODEN 21 2.2.2 GRUNDLEGENDE BETRACHTUNGEN ZUM CVD-PROZESS
24 2.2.3 CHEMISCHE REAKTIONEN 30 2.2.4 TRANSPORT UND WACHSTUMSKINETIK 38
INHALT 3 MOCVD-ANLAGE UND PROZESSFUEHRUNG 57 3.1 VERSUCHSANLAGE 52 3.1.1
LIQUID DELIVERY SYSTEM UND VERDAMPFER 52 3.1.2 REAKTOR- UND
GASVERTEILUNGSSYSTEM 59 3.1.3 VAKUUM- UND ABGASSYSTEM 63 3.1.4 TECHNIK-
UND SICHERHEITSASPEKTE 67 3.2 PROZESSFUEHRUNG 69 3.2.1
SUBSTRATMATERIALIEN UND -VORBEREITUNG 69 3.2.2 PROZESSABLAUF 70 4
ANALYTISCHE METHODEN 79 4.1 ROENTGENFLUORESZENZANALYSE 79 4.2
ROENTGENBEUGUNGSANALYSE 83 4.3 RASTERKRAFTMIKROSKOPIE 84 4.4
RASTERELEKTRONENMIKROSKOPIE 85 4.5 ERGAENZENDE SPEKTROSKOPISCHE METHODEN
85 5 CVD-PROZESS UND FILMWACHSTUM 87 5.1 VORBEMERKUNG ZUR
PROZESSSTEUERUNG 87 5.2 METALL-ORGANISCHE QUELLEN UND PRECURSORMISCHUNG
88 5.2.1 PRECURSORCHEMIE 88 5.2.2 MULTI SOURCE-BETRIEB 89 5.2.3
HYBRIDANSATZ 91 INHALT III 5.2.4 SINGLE COCKTAIL 91 5.2.5 MOLARE
KONZENTRATION DER PRECURSOREN 91 5.3 INJEKTION 93 5.3.1 OEFFNUNGSZEIT 94
5.3.2 FREQUENZ 96 5.4 VERDAMPFUNG 97 5.4.1 OPTIMIERUNG DER
VERDAMPFERTEMPERATUR 97 5.4.2 EINFLUSS DES TRAEGERGASES 98 5.5
REAKTORPARAMETER 99 5.5.1 VARIATION DER REAKTORTEMPERATUR 99 5.5.2
VARIATION DER OXIDATIONSGASE 114 5.6 VORBEMERKUNG ZUR PROZESSOPTIMIERUNG
119 5.7 WACHSTUMSKONTROLLE 120 5.8 STOECHIOMETRIEKONTROLLE 124 6
ELEKTRISCHE CHARAKTERISIERUNG UND DISKUSSION 729 6.1 VORWORT 129 6.2
DIELEKTRISCHE CHARAKTERISIERUNGSMETHODEN 129 6.2.1 METALLISIERUNG 129
6.2.2 PERMITTIVITAET UND TAN 8 130 63 MESSERGEBNISSE 133 6.4 DISKUSSION
138 IV INHALT 7 SCHLUSSFOLGERUNGEN 143 7.1 ZUSAMMENFASSUNG 143 7.2
AUSBLICK 147 ANHANG. 757 A UEBERSICHT UEBER PROBENDATEN 757 LITERATUR 755
DANKSAGUNG 775
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METALLORGANISCHE GASPHASENABSCHEIDUNG (MOCVD) OXIDISCHER DUENNSCHICHTEN
AUS DEM MATERIALSYSTEM BARIUM-TITANAT-ZIRKONAT FUER INTEGRIERTE
KONDENSATOREN VON DER FAKULTAET FUER ELEKTROTECHNIK UND
INFORMATIONSTECHNIK DER RHEINISCH-WESTFAELISCHEN TECHNISCHEN HOCHSCHULE
AACHEN ZUR ERLANGUNG DES AKADEMISCHEN GRADES EINES DOKTORS DER
INGENIEUNVISSENSCHAFTEN GENEHMIGTE DISSERTATION VORGELEGT VON
DIPLOM-INGENIEUR RALF GANSTER AUS WINDEN JETZT KREUZAU BERICHTER:
UNIVERSITAETSPROFESSOR DR.-ING. RAINER WASER UNIVERSITAETSPROFESSOR DR.
RER. NAT. HANS LUETH ULB DARMSTADT INHALT INHALT. I SYMBOLE, ABKUERZUNGEN
UND KONSTANTEN V / EINLEITUNG 1 1.1 WISSENSCHAFTLICH-TECHNISCHE RELEVANZ
1 1.2 STAND DER KENNTNIS 4 1.3 ZIELSETZUNG DIESER ARBEIT 6 2 GRUNDLAGEN
9 2.1 KOMPLEXE ERDALKALIMETALL-OXIDE MIT PEROVSKITSTRUKTUR 9 2.1.1 PARA-
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UND ANWENDUNGEN 13 2.1.3 DAS MISCHPHASENSYSTEM BATIO 3 - BAZRO 3 18 2.2
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION 21 2.2.1 GEGENUEBERSTELLUNG UNTERSCHIEDLICHER
DEPOSITIONSMETHODEN 21 2.2.2 GRUNDLEGENDE BETRACHTUNGEN ZUM CVD-PROZESS
24 2.2.3 CHEMISCHE REAKTIONEN 30 2.2.4 TRANSPORT UND WACHSTUMSKINETIK 38
INHALT 3 MOCVD-ANLAGE UND PROZESSFUEHRUNG 57 3.1 VERSUCHSANLAGE 52 3.1.1
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ANALYTISCHE METHODEN 79 4.1 ROENTGENFLUORESZENZANALYSE 79 4.2
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RASTERELEKTRONENMIKROSKOPIE 85 4.5 ERGAENZENDE SPEKTROSKOPISCHE METHODEN
85 5 CVD-PROZESS UND FILMWACHSTUM 87 5.1 VORBEMERKUNG ZUR
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88 5.2.1 PRECURSORCHEMIE 88 5.2.2 MULTI SOURCE-BETRIEB 89 5.2.3
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5.3.2 FREQUENZ 96 5.4 VERDAMPFUNG 97 5.4.1 OPTIMIERUNG DER
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119 5.7 WACHSTUMSKONTROLLE 120 5.8 STOECHIOMETRIEKONTROLLE 124 6
ELEKTRISCHE CHARAKTERISIERUNG UND DISKUSSION 729 6.1 VORWORT 129 6.2
DIELEKTRISCHE CHARAKTERISIERUNGSMETHODEN 129 6.2.1 METALLISIERUNG 129
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138 IV INHALT 7 SCHLUSSFOLGERUNGEN 143 7.1 ZUSAMMENFASSUNG 143 7.2
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