Dielectric thin films for future ULSI devices: science and technology ; [...papers presented at the 2004 International Workshop on "Dielectric Thin Films for Future ULSI Devices: Science and Technology" (IWDTF-4), which was held in Tokyo from May 26 through 28, 2004]
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Tokyo IPAP 2004
Schriftenreihe:Japanese journal of applied physics : 1 43,11B : special issue
Schlagworte:
Beschreibung:Einzelaufnahme eines Zeitschr.-Heftes
Beschreibung:S. 7807 - 7908, 27 S. Ill., graph. Darst.

Es ist kein Print-Exemplar vorhanden.

Fernleihe Bestellen Achtung: Nicht im THWS-Bestand!