Optimierung der Schichtstrukturen, Grenzflächen und Pufferschichten von Mo-Si-Multischichten in Hinsicht auf die EUV-Reflektivität:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Westerwalbesloh, Thomas E. 1973- (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: 2003
Schlagworte:
Beschreibung:V, 115 S. Ill., graph. Darst. 21 cm

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