Requirements and recent developments in high precision length metrology: proceedings of the 159. PTB-Seminar (28th - 29th Nov. 2001)
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Sprache: | English |
Veröffentlicht: |
Bremerhaven
Wirtschaftsverl. NW, Verl. für Neue Wiss.
2001
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Schriftenreihe: | PTB-Bericht
Abteilung Fertigungsmeßtechnik ; 45 Vorträge des PTB-Seminars 159 |
Schlagworte: | |
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Beschreibung: | 235 S. Ill., graph. Darst. : 30 cm |
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PHYSIKALISCH-TECHNISCHE BUNDESANSTALT
FERTIGUNGSMESSTECHNIK PTB-F-45 BRAUNSCHWEIG, NOVEMBER 2001
HARALD BOSSE, JENS FLUGGE (HRSG.)
REQUIREMENTS AND RECENT DEVELOPMENTS IN HIGH
PRECISION LENGTH METROLOGY
PROCEEDINGS OF THE 159. PTB-SEMINAR (28 TH -29 TH NOV. 2001)
INFORMATIONSBFBTLOTHEK
UNWERSITATSBIBLIOTHEK HANNOVER TECHNISCHE ISSN 0179-0609
ISBN 3-89701-841-1
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- 2-
CONTENTS
AUTHOR/T IWE PAGE
J. FLUGGE: DESIGN AND FIRST RESULTS OF PTB S NEW NANOMETER COMPARATOR
7-22
V. WEGNER: SENSOR-DESIGN AND CONTROL-CONFIGURATION OF PTB S NEW
NANOMETER COMPARATOR 23-35
F. MAEDA: A LINE SCALE MEASUREMENT SYSTEM DEVELOPED BY MITUTOYO 36-46
W. ISRAEL: CALIBRATION AND CHARACTERIZATION OF EXPOSED LINEAR
INCREMENTAL ENCODERS AT DR. JOHANNES HEIDENHAIN GMBH - SELECTED EXAMPLES
47-55
A. YACOOT: COMBINED OPTICAL AND X-RAY INTERFEROMETRY 56-75
C. ZANONI: RECENT DEVELOPMENTS IN DISPLACEMENT MEASURING INTERFEROMETRY
76-97
H. BOSSE: PTB CONTRIBUTIONS TO MASK METROLOGY 98-111
D. SWYT: NIST DIMENSIONAL METROLOGY FOR MICROELECTRONICS 112-128
J. BURGHOORN: OPTICAL WAFER ALIGNMENT AND OVERLAY METROLOGY FOR
STATE-OF-THE-ART IC MANUFACTURING 129-140
T. KIERS: CD METROLOGY AT ASML 141-152
T. HAGNER: LENGTH METROLOGY REQUIREMENTS IN MASK INDUSTRY 153-170
K.-D. ROTH: COORDINATE METROLOGY AND CD MEASUREMENT IN TRANSMITTED LIGHT
171 -186
F. /WE//: DEVELOPMENT OF AN OPTICAL 2D MEASURING INSTRUMENT AT METAS
187-201
M. ANDRAS, R. CHRISTOPH: HIGH PRECISION MULTISENSOR COORDINATE MEASURING
MACHINE 202-220
K. WENDT, J. HIRSCH: CALIBRATION OF GRID-PLATES BY MULTI-LATERATION
221-235
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