IC mask design: essential layout techniques
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Saint, Christopher (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: New York [u.a.] McGraw-Hill 2002
Schriftenreihe:McGraw-Hill professional engineering
Schlagworte:
Online-Zugang:Table of contents
Inhaltsverzeichnis
Beschreibung:XVIII, 457 S. graph. Darst.
ISBN:0071389962

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