Charakterisierung von ionenimplantiertem Galliumnitrid:
Gespeichert in:
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| Format: | Abschlussarbeit Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
Berlin
Mensch-und-Buch-Verl.
2002
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INHALT
1
EINFUEHRUNG
.
1
2
GALLIUMNITRID
.
3
2.1
HERSTELLUNGSVERFAHREN
.
4
2.2
STRUKTURELLE
UND
MECHANISCHE
EIGENSCHAFTEN
.
6
2.3
ELEKTRISCHE
UND
OPTISCHE
EIGENSCHAFTEN
.
7
2.4
DOTIEREN
.
8
2.5
GITTERDEFEKTE
.
10
3
IONENIMPLANTATION
.
12
3.1
VERFAHREN
.
12
3.2
LONEN-FESTKOERPER-WECHSELWIRKUNG
.
12
4
EXPERIMENTELLE
METHODEN
UND
BEDINGUNGEN
.
16
4.1
ANALYSE
DER
CHEMISCHEN
ZUSAMMENSETZUNG
UND
STRUKTUR
.
16
4.1.1
RUTHERFORD-RUECKSTREUSPEKTROMETRIE
.
16
4.1.2
LONENGITTERFUEHRUNG
.
18
4.1.3
SEKUNDAERIONEN-MASSENSPEKTROMETRIE
.
20
4.1.4
TRIM-SIMULATIONSRECHNUNGEN
.
24
4.1.5
ROENTGENDIFFRAKTOMETRIE
.
24
4.1.6
TRANSMISSIONSELEKTRONENMIKROSKOPIE
.
25
4.2 ELEKTRISCHE
UND
OPTISCHE
CHARAKTERISIERUNG
.
26
4.2.1
HALL-EFFEKT-MESSUNGEN
.
26
4.2.2
DEEP
LEVEL
TRANSIENT
SPECTROSCOPY
UND
ADMITTANZSPEKTROSKOPIE
.
28
DEEP
LEVEL
TRANSIENT
SPECTROSCOPY
.
29
ADMITTANZSPEKTROSKOPIE
.
30
4.2.3
PHOTOLUMINESZENZ-SPEKTROSKOPIE
.
32
4.2.4
RAMANSPEKTROSKOPIE
.
33
5
PROBENHERSTELLUNG
.
36
5.1
IMPLANTATIONSANLAGEN
.
36
5.1.1
MITTELSTROM-IONENIMPLANTATIONSANLAGE
.
36
5.1.2
TANDEM-IONENBESCHLEUNIGER
.
37
5.1.3
REALISIERUNG
DER
LONENSTROEME
.
38
IMPLANTER
.
38
TANDETRON
.
40
5.2
THERMISCHES
AUSHEILEN
.
41
5.3
AUSGANGSMATERIAL
.
42
5.4
IMPLANTATIONSPARAMETER
.
43
II
6
ERGEBNISSE
UND
DISKUSSION
.
44
6.1
KONZENTRATIONSTIEFENPROFILE
.
44
6.1.1
IMPLANTATIONSPROFILVERLAUF
.
44
VARIATION
DES
LONENEINFALLWINKELS
.
45
VARIATION
DER
IMPLANTIERTEN
DOSIS
.
46
6.1.2
LONENREICHWEITEN
VERSCHIEDENER
ELEMENTE
.
47
NACHWEISEMPFINDLICHKEITEN
MIT
SIMS
.
48
VERGLEICH
DER
LONENREICHWEITEN
MIT
WERTEN
AUS
TRIM-SIMULATIONEN
.
50
6.1.3
MEHRFACHIMPLANTATIONEN.
52
IMPLANTATION
ZWEIFACH
GELADENER
24
MG
2+
-IONEN
.
53
6.1.4
THERMISCHES
AUSHEILEN
UND
ERHOEHUNG
DER
IMPLANTATIONSTEMPERATUR
.
55
6.2
STRAHLENSCHAEDENPROFILE
UND
INTEGRALE
DEFEKTDICHTEN
.
55
6.2.1
DEFEKTTYP-BESTIMMUNG
.
56
6.2.2
ABHAENGIGKEIT
VON
DEN
IMPLANTATIONSPARAMETEM
.
58
IMPLANTATIONSDOSIS
.
58
LONENENERGIE
.
59
LONENSTROMDICHTE
.
60
THERMISCHES
AUSHEILEN
.
60
IMPLANTATIONSTEMPERATUR
.
62
6.3
STRUKTUR
.
66
6.3.1
ELEKTRONENMIKROSKOPISCHE
UNTERSUCHUNGEN
.
66
6.3.2
GITTERAUFWEITUNG
UND
-VERSPANNUNG
.
69
6.3.3
RAMANSPEKTROSKOPISCHE
UNTERSUCHUNGEN
.
74
6.4
ELEKTRISCHE
UND
OPTISCHE
EIGENSCHAFTEN
.
79
6.4.1
LADUNGSTRAEGERKONZENTRATION
.
79
6.4.2
BESTIMMUNG
DER
DEFEKTZUSTAENDE
.
80
PL-UNTERSUCHUNGEN
.
80
UNTERSUCHUNGEN
MITTELS
AS
UND
DLTS
.
83
6.5
SCHLUSSFOLGERUNGEN
.
88
7
ZUSAMMENFASSUNG
.
90
LITERATURVERZEICHNIS
.
93
DANKSAGUNG
.
98
PUBLIKATIONSLISTE
DES
AUTORS
.
100
LEBENSLAUF
DES
AUTORS
.
102 |
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