Chemical mechanical polishing 2001 - advances and future challenges: symposium held April 18 - 20, 2001, San Francisco, California, U.S.A.
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Warrendale, Pa. Materials Research Soc. 2001
Schriftenreihe:Materials Research Society symposia proceedings 671
Schlagworte:
Beschreibung:Getr. Zählung Ill., graph. Darst.
ISBN:1558996079

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