STM- und XPS-Untersuchungen zum Reaktionsverhalten von TEOS auf Silicium:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Spitzmüller, Jürgen 1973- (VerfasserIn)
Format: Elektronisch Software E-Book
Sprache:German
Veröffentlicht: 2000
Schlagworte:
Beschreibung:Ulm, Univ., Diss., 2000. - Titel auf der Beil.
Beschreibung:1 CD-ROM 12 cm Beil. ([1] Bl.)
Format:doc. - pdf. - prn. - Acrobat Reader 4.0

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