Si front end processing - physics and technology of dopant defect interactions II: symposium held April 24 - 27, 2000, San Francisco, California, U.S.A.
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Weitere Verfasser: Agarwal, Aditya (HerausgeberIn)
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Warrendale, Pa. MRS 2001
Schriftenreihe:Materials Research Society symposia proceedings 610
Schlagworte:
Beschreibung:Getr. Zählung Ill., graph. Darst.
ISBN:1558995188

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