Struktur und Eigenschaften von Schichtsystemen für den EUV-Spektralbereich:
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| Format: | Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
2000
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| Beschreibung: | Jena, Univ., Diss., 2000 |
| Beschreibung: | 81 Bl. Ill., graph. Darst. : 30 cm |
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INHALT
1 EINLEITUNG 4
2 GRUNDLAGEN 6
2.1 OPTISCHE KONSTANTEN IM EUV-SPEKTRALBEREICH 6
2.2 REFLEXION AN EINER GRENZFLAECHE 7
2.3 REFLEXION IM SCHICHTSYSTEM 10
2.4 REALE GRENZFLAECHEN IM SCHICHTSYSTEM - 14
3 DESIGN, HERSTELLUNG UND CHARAKTERISIERUNG VON EUV-SPIEGELN 18
3.1 DESIGN VON EUV-SPIEGELN 18
3.2 HERSTELLUNG VON EUV-SPIEGELN 24
3.3 CHARAKTERISIERUNG VON EUV-SPIEGELN 27
4 PROBENPRAEPARATION UND CHARAKTERISIERUNGSMETHODEN 29
4.1 SPUTTERSYSTEM MRC 903M 29
4.2 ROENTGENREFLEKTOMETRIE 30
4.3 EUV-REFLEKTOMETRIE 35
4.4 RASTERKRAFTMIKROSKOPIE 35
4.5 TRANSMISSIONS-ELEKTRONENMIKROSKOPIE 37
5 MO/SI-SCHICHTSYSTEME 38
5.1 KALIBRIERUNG DER EINZELSCHICHTDICKEN IM SCHICHTSYSTEM 38
5.2 EINFLUSS DER ENERGIE DER ADATOME AUF DAS SCHICHTWACHSTUM 40
2
BIBLIOGRAFISCHE INFORMATIONEN
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5.3 EINFLUSS DER ENERGIE DER SPUTTERGAS-IONEN AUF DAS SCHICHTWACHSTUM 44
5.4 EUEV-REFLEXION VON MO/SI-SCHICHTSYSTEMEN 49
5.5 STRUKTUR UND WACHSTUM VON MO/SI-SCHICHTSYSTEMEN 53
6 MO
2C/SI- UND MO/MO2C/SI/MO2C-SCHICHTSYSTEME 55
6.1 OPTISCHE EIGENSCHAFTEN IDEALER SCHICHTSYSTEME 56
6.2 REFLEKTIVITAET VON MO
2C/SI- UND MO/MO2C/SI/MO2C-SCHICHTSYSTEMEN 57
6.3 MIKROSTRUKTUR VON MO
2C/SI- UND MO/MO2C/SI/MO2C-SCHICHTSYSTEMEN 59
6.4 DISKUSSION UND ZUSAMMENFASSUNG 61
7 THERMISCHE STABILITAET VON EUV-SCHICHTSYSTEMEN AUF SILIZIUM-BASIS 63
7.1 PROBENPRAEPARATION 63
7.2 CHARAKTERISIERUNG MIT ROENTGENREFLEXION 64
7.3 CHARAKTERISIERUNG MIT ROENTGENBEUGUNG 66
7.4 CHARAKTERISIERUNG MIT TRANSMISSIONS-ELEKTRONENMIKROSKOPIE 71
7.5 DISKUSSION UND ZUSAMMENFASSUNG 72
8 ZUSAMMENFASSUNG 74
LITERATUR 77
3 |
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