Schmitz, J. E. (1992). Chemical vapor deposition of tungsten and tungsten silicides: For VLSI ULSI applications (Reprint ed.). Noyes.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Schmitz, John E. Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides: For VLSI ULSI Applications. Reprint ed. Westwood, NJ: Noyes, 1992.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Schmitz, John E. Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides: For VLSI ULSI Applications. Reprint ed. Noyes, 1992.
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