SISPAD '96: 1996 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices, September 2 - 4, 1996, Toyo University, Hakusan Campus, Tokyo, Japan
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices Tokio (VerfasserIn)
Format: Tagungsbericht Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Tokyo Business Center for Acad. Soc. Japan 1996
Schlagworte:
Beschreibung:XIV, 184 S. Ill., graph. Darst.
ISBN:0780327454
0780327462

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