Polykristalline CdSe-Dünnfilmtransistoren mit optimierten Eigenschaften und Technologie großflächiger ferroelektrischer Flüssigkristallanzeigen mit Foliensubstraten:
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| Format: | Buch |
| Sprache: | German |
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2000
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-1
-
INHALTSVERZEICHNIS
1
EINLEITUNG
7
2
POLYKRISTALLINE
CDSE-DUENNFLLMTRANSISTOREN
10
2.1
AUFBAU
UND
MODELLIERUNG
.
10
2.2
CHARAKTERISIERUNG
.
17
2.2.1
AUSGANGSKENNLINIEN
.
17
2.2.2
UEBERTRAGUNGSKENNLINIEN
.
18
2.3
HYSTERESE
DER
UEBERTRAGUNGSKENNLINIEN
.
20
2.3.1
ZUSTANDSDICHTE
DER
LANGSAMEN
HAFTSTELLEN
IM
GATEDIELEKTRIKUM
.
24
2.4
BESTIMMUNG
DER
EFFEKTIVEN
LADUNGSTRAEGERBEWEGLICHKEIT
.
25
3
OPTIMIERTER
HERSTELLUNGSPROZESS
FUER
CDSE-DUENNFLLMTRANSISTOREN
MIT
HOHER
BEWEGLICHKEIT
29
3.1
MOTIVATION
.
29
3.2
PROZESSFOLGE
.
31
3.3
DER
EINFLUSS
VON
TEMPERATURBEHANDLUNGEN
.
35
4
PASSIVIERUNGSSCHICHTEN
40
4.1
APCVD-SIO
2
.
40
4.2
MGF
2
/SIO
2
-
DOPPELSCHICHT
.
43
4.2.1
BESCHICHTUNG
MIT
MGF
2
.
43
4.2.2
VAKUUMTEMPERUNG
ZUR
KONDITIONIERUNG
DES
HALBLEITERS
.
45
4.2.3
SCHUTZSCHICHT
AUS
APCVD-SIO
2
.
46
4.2.4
EIGENSCHAFTEN
DER
MGF
2
/SIO
2
-
PASSIVIERTEN
CDSE-DUENNFILMTRANSIS
TOREN
.
47
4.3
VERGLEICH
VON
DUENNFLLMTRANSISTOREN
MIT
SIO
2
-
UND
MGF
2
/SIO
2
-
DOPPELSCHICHTPASSIVIERUNG
.
48
4.3.1
LANGZEITSTABILITAET
DER
TRANSISTOREN
OHNE
ANSTEUERUNG
.
50
-2
4.3.2
STABILITAET
BEIM
EINSATZ
ALS
SCHALTELEMENT
IM
BILDPUNKT
.
51
5
SCHIEBEREGISTERSCHALTUNG
MIT
MGF
2
/SIO
2
-
PASSIVIERTEN
CDSE-DUENN
FILMTRANSISTOREN
53
5.1
DAS
4-PHASEN-SCHIEBEREGISTER
FUER
DIE
ZEILENANSTEUERUNG
.
54
5.2
SIMULATION
DER
EINGANGSSTUFE
.
55
5.3
HERSTELLUNG
DER
SCHALTUNG
MIT
DEM
OPTIMIERTEN
CDSE-HERSTELLUNGSPROZESS
.
56
6
VERHALTEN
DER
DUENNFLLMTRANSISTOREN
BEI
ELEKTRISCHER
BELASTUNG
62
6.1
BIAS-SPANNUNG
AM
GATE
BEI
ERHOEHTER
TEMPERATUR
.
63
6.1.1
MODELLIERUNG
DES
BIAS-VERHALTENS
.
63
6.1.2
KONSTANTE
BIAS-SPANNUNG
AM
GATE
.
65
6.1.3
GEPULSTE
BIAS-SPANNUNG
AM
GATE
.
67
6.1.4
DISKUSSION
DER
ERGEBNISSE
.
69
6.2
STROMBELASTUNG
DES
HALBLEITERKANALS
.
70
7
GROSSFLAECHIGE
FERROELEKTRISCHE
FLUESSIGKRISTALLANZEIGEN
MIT
FOLIENSUB
STRATEN
74
7.1
EIGENSCHAFTEN
FERROELEKTRISCHER
FLUESSIGKRISTALLE
.
75
7.2
FERTIGUNGSPROZESS
FUER
EIN
BISTABILES
MATRIX-DISPLAY
MIT
4,8
"
DIAGONALE
.
80
7.2.1
LAYOUT
UND
PROZESSUEBERSICHT
.
80
7.2.2
STRUKTURIERUNG
DER
ZEILEN
UND
SPALTENLEITUNGEN
.
82
7.2.3
ISOLATIONSSCHICHT
.
83
7.2.4
GEAETZTE
ORGANISCHE
ABSTANDHALTER
.
83
7.2.4.1
PHOTOLACK
AZ1514
.
84
7.2.4.2
DAS
MATERIAL
PC403
.
85
7.2.5
ORIENTIERUNGSSCHICHT
AUS
POLYIMID
.
86
7.2.6
AUSWAHL
DES
FLUESSIGKRISTALLS
.
87
7.2.7
VAKUUMFREIER
ZELLENBAU
.
88
7.2.7.1
VERPRESSEN
.
88
7.2.7.2
LAMINIEREN
.
89
7.2.8
REORIENTIERUNG
UND
KONDITIONIERUNG
DER
FLUESSIGKRISTALLZELLE
.
90
7.3
ELEKTROOPTISCHES
VERHALTEN
DER
FLC-ZELLE
.
90
-3
7.3.1
HYSTERESE
DER
ELEKTROOPTISCHEN
KENNLINIE
UND
BISTABILES
SCHALTVER
HALTEN
.
90
7.3.2
BESTIMMUNG
DES
KONTRASTES
.
94
8
ZUSAMMENFASSUNG
97
A
EMPFINDLICHKEIT
DER
EFFEKTIVEN
BEWEGLICHKEIT
VON
POLY-CDSE-TFTS
IN
ABHAENGIGKEIT
DES
DRAINSTROMS
99
A.L
BERECHNUNG
FUER
DEN
ANLAUFBEREICH
.
99
A.2
BERECHNUNG
FUER
DEN
SAETTIGUNGSBEREICH
.
100
B
BERECHNUNG
DES
DRAINSTROMES
NACH
STRAUB
102
C
BERECHNUNG
DER
LADUNG
AN
DER
GATEOXYD/HALBLEITER-GRENZSCHICHT
MIT
GATE-BIAS-SPANNUNG
104
D
HERSTELLUNGSPROZESS
FUER
OPTIMIERTE
CDSE-TFTS
UND
INTEGRIERTE
TREI
BERSCHALTUNGEN
106
E
HERSTELLUNGSPROZESS
FUER
FLC-FOLIENANZEIGEN
111
E.L
4,8
"
FLC-FOLIENDISPLAY
.
111
ABBILDUNGSVERZEICHNIS
114
TABELLENVERZEICHNIS
118
LITERATURVERZEICHNIS
119 |
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