17th Annual Symposium on Photomask Technology and Management: 17 - 19 September 1997 Redwood City, California
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: Symposium on Photomask Technology and Management Redwood City, Calif (VerfasserIn)
Format: Tagungsbericht Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Bellingham, Wash. SPIE 1998
Schriftenreihe:Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers: Proceedings of SPIE 3236
Schlagworte:
Beschreibung:IX, 554 S. Ill., graph. Darst.
ISBN:0819426695

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