Papers from the fifth International Workshop on the Measurement, Characterization, and Modeling of Ultra Shallow Doping Profiles in Semiconductors: 28 - 31 March 1999, Research Triangle Park, North Carolina
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Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: International Workshop on the Measurement, Characterization, and Modeling of Ultra-Shallow Doping Profiles in Semiconductors Research Triangle Park, NC (VerfasserIn)
Format: Tagungsbericht Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: New York American Inst. of Physics 2000
Schriftenreihe:Journal of vacuum science & technology / B 18,1
Schlagworte:
Beschreibung:Einzelaufn. eines Zeitschr.-Heftes
Beschreibung:S. 337 - 606 Ill., graph. Darst.

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